Fuente de alimentación para sputtering con plasma DC de 500 W con cabezal de sputtering de magnetrón opcional - DC-500-LD

La fuente de alimentación DC-500-LD está pensada principalmente para fuentes de sputtering de magnetrón de corriente continua. Es compacta y tiene un rendimiento superior al 90%, así como una baja energía almacenada en la salida. La circuitería especial integrada permite la supresión del arco para aplicaciones sensibles al arco y el control del arco para aplicaciones de arco sostenido. Los controles del panel frontal conmutan la regulación entre potencia, corriente o tensión constantes, al tiempo que permiten la rampa de potencia hasta el punto de ajuste.

Entrada	AC220V +/-10
Salida	Max. Potencia de salida: 500 W Voltaje Tensión de salida: DC600V Resolución de tensión: DC 1.0V Corriente de salida máx. Corriente de salida: DC 0.8A Resolución de corriente: 1mA Precisión de control: +1% Conector de salida: SL16 (UHF hembra)
>Dimensión	Caja: A440mm X A85mm X P403mm Cara frontal: An440mm X Al85mm
Accesorios opcionales Haga clic aquí para pedir	Puede pedir la fuente de pulverización catódica de magnetrón de alto vacío de 2" para el recubridor de pulverización catódica de RF y CC DIY junto con la fuente de alimentación de CC para uso inmediato. El enchufe rápido de alto vacío se incluye en el pedido de la fuente de alimentación de 500W DC para sputtering junto con la fuente de sputtering de 2". Enchufe rápido de alto vacío con diámetro interior de 0,75" (compatible con HVMSS-SPC-2). Utilice este componente para instalar la herramienta para sputtering HVMSS-SPC-2 en la placa base (de hasta 1" de grosor) de una cámara de vacío con orificio pasante de 1" de diámetro.
Instrucciones de uso	(haga clic para ver otros componentes)
Garantía	Limitada a un año con asistencia de por vida