Alto vacío

MTI

Horno tubular de alta presión y alto vacío de tres zonas 1100C con tubo de superaleación - OTF-1200X-III-HP-80

MTI

1100°C Horno de vacío de cámara de 8" de diámetro interior VBF-800X-HV

MTI

Horno tubular 1200°C Max (3" ID ) con función de deslizamiento de la muestra bajo alto vacío- OTF-1200X-DVD-M

MTI

1250°C Max. Horno de cámara de alto vacío para muestra de 4" - VBF-1200X-HV

MTI

Horno de cámara de alto vacío de pared fría de 1400°C (Ø100×120 mm) HVF-1200X-CW

MTI

Horno tubular de alto vacío de 1500°C con tubo de 110 mm de diámetro interior - GSL-1500X-120

MTI

Horno de alto vacío de pared fría 1600°C (Superficie de calentamiento 200×200×300mm) - HVF-1600X-12L

MTI

Horno tubular 1700C con sistema de alto vacío (1,0E-4 torr) - GSL-1700X-HV-LD

MTI

Horno tubular 1700C con sistema de alto vacío (10^-4Torr) y mezclador de gas MFC (2-4 canales opcionales) - GSL-1700X-4-HVC-LD

MTI

Horno de cámara de alto vacío y presión 800°C (500x500x500 mm hasta 3,5 bar) GSL-800-L

MTI

Horno de alta temperatura y alto vacío (900°C máx. 18x18x18, 90 litros) con puerta corredera- HTVO-90

MTI

Deposición química en fase vapor mejorada por plasma a alto vacío (tipo CCP) - VTC-PECVD

MTI

Horno tubular de tres zonas (1200C) con estación de alto vacío (1,0E-4 torr) + estación de gas MFC de 4 canales para CVD - OTF-1200X-III-HVC-LD

MTI

Horno tubular con alto vacío (1E-4 torr) y estación de flujo de gas de 3 canales para CVD - Serie OTF-1200X-HVC3

MTI

Horno tubular UHV con recipiente de 100 mm de diámetro interior de aleación a base de Ni @ 1150oC máx. hasta 10-6 Torr - OTF-1150X-III-100

MTI

Horno de calentamiento y prensado ultrarrápido (UHP) de hasta 2900°C y 500 kgf con vacío ultraalto - RTP-MS