Flux

MTI

1200 ºC Máx. Horno de crecimiento de solución de siembra superior (TSSG) - VTF-1200X-TSSG

MTI

Horno de crecimiento de solución de siembra superior (TSSG) de 3 zonas a 1200 ºC máx. - VTF-1200X-III-TSSG

MTI

Horno de crecimiento LPE de 5 zonas para película YIG (1200C máx.) - VTF-1200X-LPE

MTI

Horno de crecimiento de solución de siembra superior (TSSG) a 2200ºC - VTF-2200X-TSSG

MTI

Horno de crecimiento de cristales epitaxiales en fase líquida hasta 1700C - VBF-1700-LPE

MTI

Horno de alta presión de doble zona de calentamiento -10 MPa a 1200°C para el crecimiento de cristales de GaN - CM-HIP-2-II