1200 ºC Máx. Horno de crecimiento de solución de siembra superior (TSSG) - VTF-1200X-TSSG
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1200 ºC Máx. Horno de crecimiento de solución de siembra superior (TSSG) - VTF-1200X-TSSG
MTI
El VTF-1200X-TSSG es un horno de crecimiento de solución de semilla superior(TSSG) para el crecimiento de diversos cristales individuales mediante solución fundente. El horno se compone de ladrillo de fibra de alúmina de alta calidad con una cámara de 9,5 "de diámetro x 8,6" de alto y se puede utilizar hasta 1200º C. El controlador de temperatura digital de precisión con 30 segmentos programables está incorporado en el horno con una precisión de +/- 0,1ºC, así como un mecanismo de precisión, tracción y rotación con un rango de velocidad de 0,1 - 50 mm/hora.
- Por favor, haga clic para ver el artículo del Método Flux para la Preparación de Cristales
Construcción del horno![]() ![]()
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| >Temperatura de trabajo |
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| Panel de control |
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| Rango de tracción |
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| Potencia |
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| Cable de alimentación y enchufe |
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| Dimensiones del horno | |
| Garantía |
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