Horno de crecimiento de solución de siembra superior (TSSG) de 3 zonas a 1200 ºC máx. - VTF-1200X-III-TSSG
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Horno de crecimiento de solución de siembra superior (TSSG) de 3 zonas a 1200 ºC máx. - VTF-1200X-III-TSSG
MTI
El VTF-1200X-III-TSSG es un horno de crecimiento de solución de semilla superior(TSSG) de 3 zonas para el crecimiento de diversos cristales mediante solución fundente. El horno consta de tres zonas de calentamiento con la cámara de 5" de diámetro x 24" de altura hasta 1200º C. El controlador de temperatura digital de precisión con 28 segmentos programables está incorporado en el horno con una precisión de +/- 0,1ºC, así como un mecanismo de precisión, tracción y rotación con un rango de velocidad de 0,1 - 50 mm/hora.
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