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OTF-1200X-S-II-PECVD
Horno rotativo PECVD 1100C con bomba de vacío - OTF-1200X-S-II-PECVD
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Horno rotativo PECVD 1100C con bomba de vacío - OTF-1200X-S-II-PECVD
MTI
OTF-1200X-S-II-PECVD es un sistema de deposición química en fase vapor mejorada por plasma (PE-CVD) giratorio de dos zonas a1000ºC. Consta de un generador de plasma RF (frecuencia de relación) de 300 W, una red de adaptación y una bomba de vacío de alto rendimiento. Este sistema es una herramienta excelente para el tratamiento térmico de polvos de compuestos inorgánicos con uniformidad de recubrimiento superficial (por ejemplo, preparar polvos de cátodos de baterías Li-Ion con recubrimientos conductores en la superficie de la muestra).
ESPECIFICACIONES:
ESPECIFICACIONES:
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| Horno rotativo de dos zonas |
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| Fuente de alimentación de plasma RF |
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| Velocidad de rotación del tubo |
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| Bomba de vacío y manómetro |
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| Garantía | Un año de garantía limitada con soporte de por vida (Piezas consumibles como tubos de procesamiento, juntas tóricas y elementos de calefacción no están cubiertos por la garantía, por favor pida reemplazos en productos relacionados a continuación). |
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| Notas de aplicación |
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