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OTF-1200X-II-50-PEMSL
Horno tubular PECVD de dos zonas y 1200C máx. (50 mm de diámetro exterior) con precalentador y deslizamiento automático - OTF-1200X-II-50-PEMSL
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Horno tubular PECVD de dos zonas y 1200C máx. (50 mm de diámetro exterior) con precalentador y deslizamiento automático - OTF-1200X-II-50-PEMSL
MTI
OTF-1200X-II-50-PEMSL es un sistema de horno tubular PE-CVD de doble zona que consta de una fuente de plasma RF de 300 W, un mecanismo deslizante de velocidad controlada, un precalentador para sublimar el material sólido y una bomba de vacío sin aceite de alta calidad. Este horno PE-CVD es una nueva herramienta para el crecimiento de nanohilos y para el recubrimiento CVD de una amplia gama de materiales con las siguientesventajas:
- Menor temperatura de procesamiento en comparación con el CVD convencional
- Alta velocidad de calentamiento y enfriamiento mediante un horno deslizante
- Doble zona de calentamiento para crear un gradiente térmico de hasta 500ºC
- 1100ºC Máx. la temperatura de trabajo en el horno tubular
- 1100ºC Máx. la temperatura de trabajo en el precalentador para calentar la fase vapor o evaporar materiales sólidos
- Enfriamiento y calentamiento rápidos para el cultivo de materiales 2D
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| Estación de bomba de vacío y válvulas |
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| Mecanismo de deslizamiento |
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Opcional |
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| Dimensiones generales |
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| Garantía | Garantía limitada de un año con asistencia de por vida (las piezas consumibles como tubos de procesamiento, juntas tóricas y elementos calefactores no están cubiertos por la garantía, pida repuestos en los productos relacionados a continuación). | ||
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| >Conformidad |
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