Horno rotativo PE-HPCVD 1200C con evaporador in situ, MFC de 4 canales y bomba de vacío - OTF-1200X-II-PEC4

OTF-1200X-II-PEC4 es un sistema de deposición de vapor híbrido-físico-químico (PE-HPCVD) mejorado por plasma de dos zonas y giratorio de 1200ºC. Consta de un bastidor inclinable, un generador de plasma de RF de 300 W y una red de adaptación, un barco de evaporación de fuente ascendente con fuente de alimentación, un suministro de gas MFC de cuatro canales y una bomba de vacío de alto rendimiento. Este sistema completo es una herramienta excelente para el tratamiento térmico de polvos de compuestos inorgánicos con temperatura superior y uniformidad de recubrimiento de lasuperficie (por ejemplo, preparar polvos de cátodos de baterías Li-Ion con recubrimientos conductores en la superficie).

ESPECIFICACIONES:

Estructura del sistema	El bastidor de inclinación ajustable de 0~25° facilita la carga y descarga delpolvo La fuente de alimentación de RF integrada de 300 W (13,56 Mhz) con red de adaptación permite el procesamiento mejorado por plasma, lo que reduce significativamente la necesidad de un proceso a alta temperatura. La rotación del tubo accionada por engranajes permite el procesamiento de tipo "mezcla" de polvos para lograr la mejor uniformidad de procesamiento La estación de mezcla de gas de cuatro canales con MFC proporciona un control preciso del suministro de gas La integración del Barco de Evaporación en Fuente Up-Stream con bobina de tungsteno permite sublimar precursores sólidos para las necesidades del procesado Físico-Químico Híbrido
Horno rotativo de dos zonas	Temperatura de trabajo: 1200ºC Max(<1hrs), y 1100ºC para calentamiento continuo Dos controladores de temperatura PID con 30 segmentos programables. Potencia de entrada: 208 - 240VAC, una sola fase a max. 2,5KW. Aislamiento fibroso de alúmina de alta pureza para un máximo ahorro de energía El motor DC de engranajes acciona el tubo de cuarzo con velocidad variable de 2 - 10 RPM La cubierta dividida permite un enfriamiento más rápido y un manejo más sencillo Dos zonas: cada zona de 200 mm (8") de longitud, zona de calentamiento total de 400 mm (16") Zona de temperatura constante: 200 mm dentro de +/-1oCsi dos zonas a la misma temperatura.
Fuente de alimentación de plasma RF	Potencia de salida: 5 -300 W ajustable con ± 1% de estabilidad. Frecuencia RF: 13,56 MHz ±0,005% de estabilidad. Potencia de reflexión: 100 W máx. Adaptación: Automática Puerto de salida de RF: 50 Ω, tipo N, hembra. Ruido: <50 dB. Refrigeración: Refrigeración por aire. Alimentación: 208-240 VCA, monofásica, 50/60 Hz.
Barco de Evaporación	Temperatura de trabajo: 1300ºC Max(<1hrs)., y 1200ºC para calentamiento continuo (1500ºC con la cámara del horno calentada a 800ºC) Crisol de alúmina de 0,7 ml con bobina de calentamiento de tungsteno rodeada. Insertos de termopar tipo S para una medición precisa de la temperatura del material de partida. Fuente de alimentación de evaporación de 500W DC con corriente de funcionamiento máx. @ 30Amps
Tubo de cuarzo	Estándar: Tubo de cuarzo fundido de 4'' de diámetro exterior, haga clic en la imagen de la izquierda para obtener más detalles. Un par de 60mm SS brida de sellado con válvulas de aguja conector de gas giratorio y se incluyen para su uso inmediato
Bridas de sellado	En cada extremo del tubo se instalan un par de bridas de desconexión rápida de 1'' de diámetro exterior con puerto KF25. Se utiliza un acoplamiento giratorio con junta magnética para permitir la rotación del tubo sin torsión. Juego de bridas izquierda Juego brida derecha
Velocidad de rotación del tubo	0 - 5 RPM variable
Ángulo de inclinación del horno	0~30°
Bomba de Vacío y Manómetro	EQ-FYP bomba de vacío de alto rendimiento de doble etapa se incluye en la venta, por favor haga clic en la imagen de la izquierda para ver las especificaciones detalladas. KF25 adaptador y fuelle de acero inoxidable están conectados entre la bomba y la brida del tubo Se puede alcanzar un vacío de 10E-2 Torr dentro del tubo de procesamiento Nota: Vacuómetro está disponible a un costo adicional, por favor haga clic en subrayado y para ordenar
Estación de mezcla de gases MFC	Cuatro caudalímetros másicos de precisión (0,02% de exactitud) con pantallas digitales están instalados en la carcasa inferior para controlar automáticamente el caudal de gas. MFC 1: Rango de caudal de gas de 0~100 SCCM MFC 2&3: Rango de control de 0~200 SCCM MFC 4: Rango de control de 0~500 SCCM Conexiones de entrada/salida de gas: Racor de 6 mm de diámetro exterior Alimentación: 208-240VAC 50/60Hz Válvulas de aguja de acero inoxidable para el control manual ON/OFF del suministro de gas. La gran pantalla táctil de control PLC permite ajustar fácilmente el caudal
Control de temperatura href="http://mtixtl.com/temperaturecontrolsystemforcontrollingmtisfurnacebyusingcomputereq-mts02.aspx">	Diseño de dos zonas de calentamiento con controlador de temperatura individual Control PID preciso del calentamiento, la velocidad de enfriamiento y el tiempo de permanencia, 30 segmentos programables para Protección integrada contra sobrecalentamiento y rotura del termopar. La protección contra sobretemperatura y la alarma permiten el funcionamiento sin operario(s). Precisión de temperatura de +/- 1 ºC. Tres termopares tipo K (uno para cada zona). Puerto de comunicaciones RS485. Opcional: El horno puede ser operado por PC instalando un módulo de control. Solicite un módulo de control MTS-02 con coste adicional. Si pide el módulo de control para PC junto con el horno, le instalaremos y lo probaremos antes del envío. Le recomendamos que nos pida un ordenador portátil para evitar problemas de instalación del software. Para más información, haga clic aquí.
Alimentador volumétrico y depósito colector (opcional)	El alimentador automático EQ-PF-1S incluye un agitador accionado por motor y una tolva de acero inoxidable con vibrador incorporado. Está diseñado parar la alimentación de polvo sólido en un horno para la cocción continua / tratamiento térmico. Haga clic en la imagen 1 de la izquierda para realizar el pedido. El depósito de recogida de acero inoxidable (2 litros de capacidad) puede instalarse en el otro extremo del tubo de procesamiento para recoger el polvo cocido sin exponerlo al aire. Haga clic en la imagen 2 de la izquierda para ver los detalles. Puede añadir una válvula de compuerta de vacío en la parte superior del tanque de recogida de muestras para el material sensible al aire. (Foto 3)