Productos

MTI

Aislamiento térmico para la cubierta de calefacción del VTC100PA, 6" PULGADAS

MTI

Oblea de óxido térmico, capa de SiO2 de 30 nm sobre Si (100), 2" diá. x 0,50 mm t, tipo N, dopada con As, 1 cara pulida, R:<0,005 ohm.cm

MTI

Oblea de óxido térmico: 100 nm SiO2 Layer on Si (100), 4 "dia x 0.50 mm t, P-type ,B-doped 1SP R:1-10 ohm.cm

MTI

Oblea de óxido térmico: 100 nm SiO2 Layer on Si (100), 4 "dia x 0.525 mm , N type , P doped, 1SP R: 0.1-1.0ohm.cm - Fm100SOonSIPa100D0525C1R01US

MTI

Oblea de óxido térmico: 100 nm SiO2 sobre Si (100), 10 x 10 x 0,5 mm, tipo N, dopado con As, 1SP, R: 0,001-0,005 ohm.cm

MTI

Oblea de óxido térmico: 100 nm SiO2 sobre Si (100), 5x5 x 0,5 mm, tipo N, dopado con As, 1SP, R: 0,001-0,005 ohm.cm

MTI

Oblea de óxido térmico: 1000 nm SiO2 Layer on Si (100), 4 "dia x 0.525 mm t, Ptype , 1SP,R:1-20 ohm.cm

MTI

Oblea de óxido térmico: 285 nm SiO2 sobre Si (100), 10 x 10 x 0,5 mm, tipo N ,1SP dopada con P, R:1-10 ohm.cm

MTI

Oblea de óxido térmico: Capa de SiO2 de 300 nm sobre Si (100), 100 mm diá. x 0,5 mm t, tipo P, 1SP R:0,01-0,05 ohm.cm

MTI

Oblea de óxido térmico: 300 nm SiO2 Layer on Si (100), 2" dia x 0.50 mm t, N type ,As-doped, 1 side polished, R:0.001-0.005 ohm.cm - Fm300SOonSIAsa50D05C

MTI

Oblea de óxido térmico: 300 nm SiO2 Layer on Si (100), 3 "dia x 0.50 mm t, P-type ,B-doped 1SP R:1-10 ohm.cm

MTI

Oblea de óxido térmico: Capa de SiO2 de 300 nm sobre Si (100), 3 "dia x 0,50 mm t,tipo N no dopado, 1SP R:>1000 ohm.cm

MTI

Oblea de óxido térmico: Capa de SiO2 de 300 nm sobre Si (100), 4 "dia x 0,5 mm t, tipo N, 1SP dopado con As, R:0,001-0,005 ohm.cm

MTI

Oblea de óxido térmico: Capa de SiO2 de 300 nm sobre Si (100), 4 "dia x 0,5 mm t, tipo P, 1SP R:1-10 ohm.cm

MTI

Oblea de óxido térmico: Capa de SiO2 de 300 nm sobre Si (100), 4 "dia x 0,5 mm t, tipo P, 2SP, R:1-10 ohm-cm - Fm300SOonSIBa100D0525C2R1US

MTI

Oblea de óxido térmico: Capa de SiO2 de 300 nm sobre Si (100), 4 "dia x 0,50 mm t, tipo N, dopado con P , 1SP R:1-10 ohm.cm

MTI

Oblea de óxido térmico: 300 nm SiO2 Layer on Si (100), 4 "dia x 0.525 mm t, N type, As-doped 1SP, R:0.001-0.005 ohm.cm - Fm300SOonSIAsa100D0525C1US

MTI

Oblea de óxido térmico: 300 nm SiO2 Layer on Si (111), 3 "dia x 0.50 mm t, N-type ,P-doped 1SP R:5-15 ohm.cm

MTI

Oblea de óxido térmico: Capa de SiO2 de 300 nm sobre Si (111), 4 "dia x 0,525 mm t, tipo N, dopado con Sb 1SP R: 0,01-0,02 ohm.cm - Fm300SOonSISbc101D0525C1R001

MTI

Oblea de óxido térmico: 300nm SiO2 Layer on Si (100), 4 "dia x 0.5mm t, N-type, Sb-doped 1SP R: 0.01-0.02 ohm-cm - Fm300SOonSISba101D0525C1R001