Sustrato monocristalino de Al2O3 , <0001> 4". x 0,5mm 1sp - ALC100D05C1

• El zafiro ( monocristal de _Al2O3 ) se utiliza ampliamente como sustrato para nitruros III-V y para muchas otras películas epitaxiales.
• Orientación: Eje C[0001] ( +-0.^5o) con plano estándar
• Orientación: Eje C[0001] +-0.^5o
• Diámetro: 100mm +/- 0.1mm
• Espesor: 500um +/- 25 um
• Plano Mayor: Eje A[11-20]+/-0.^5o
• Longitud del plano mayor: 32,5 mm +/- 1,5 mm
• Acabado superficial: Caras frontales: Epi-pulido Ra<0.2nm(por AFM)
• TTV <= 25um
• Superficie pulida: Pulido epi por un lado mediante tecnología CMP especial.
• Embalaje: Cada oblea se embala en sala blanca de clase 1000 .
  

Propiedades típicas:

• Estructura cristalina: Hexagonal. a=4.758 Angstroms c=12,99 Angstroms,
• Punto de fusión: 2040 grados C
• Densidad: 3,97 ^gramos/cm2
• Técnica de crecimiento: CZ
• Pureza del cristal: 99,996
• Dureza: 9 ( mohs)
• Térmica Expansión: 7.5x10^{-6 (}/ ^oC)
• Conductividad térmica: 46,06 @ 0 ^oC25,12 @ 100 ^oC, 12,56 @ 400 ^oC( W/(m.K) )
• Constante dieléctrica: ~ 9,4 @300K en el eje A ~ 11,58@ 300K en el eje eje C
• Tangente de pérdida a 10 GHz: < ^2x10-5 en el eje A, <5 ^x10-5 en el eje C

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