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MTI  |  SKU: GSL1100XPJF-H

Haz de plasma atmosférico con sistema de barrido automático y placa calefactora para el tratamiento de superficies- GSL1100X-PJF-H

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Haz de plasma atmosférico con sistema de barrido automático y placa calefactora para el tratamiento de superficies- GSL1100X-PJF-H

MTI

El GSL1100X-PJF-H combina un haz de plasma atmosférico, una mesa de trabajo automática de dos dimensiones y una placa calefactora, lo que permite que el haz de plasma explore la superficie de la muestra de acuerdo con la configuración del programa y la consistencia y uniformidad del recubrimiento o tratamiento de la superficie. El sistema consta de un generador de RF, un tubo flexible de suministro de gas, un cabezal de haz de plasma, una mesa de trabajo X-Y, un portamuestras de mandril de vacío, una caja de control programable, placas calefactoras y una caja de control de temperatura. El haz de plasma puede activar y limpiar rápidamente la superficie del material a baja temperatura sin vacío, como obleas de cristal único, componentes ópticos, plásticos, etc . También realiza películas de CVD mejoradas por plasma sobre el sustrato mediante una mezcla de gas químico a presión atmosférica.


ESPECIFICACIONES

Potencia de entrada para plasma 208 V - 240VAC, 50/60 Hz, < 1000W
Generador RF
Frecuencia de salida: 20-23 kHz, 25KV (haga clic en la imagen de abajo - izquierda para ver las especificaciones detalladas)
Cabezal del haz de plasma: Cabezal redondo: 10-12mm
Presión de gas de entrada y gases de trabajo
  • 40 PSI mín. (0,055 Mpa)
  • Aire, N2, Ar, He o cualquier mezcla de gases (no gases inflamables y explosivos)
Presión de trabajo del plasma 7- 10 PSI

Ambiente de trabajo
  • Temperatura: < 42°C
  • Humedad: ? 40%RH
  • Sin gas inflamable

Etapa de muestra y controlador
  • Las dos dimensiones X-Y son accionadas por motores paso a paso y controladas por la caja de control CNC.
  • El eje Z es ajustable manualmente
  • La caja de control tiene una pantalla LCD y el programa de escaneado puede ajustarse mediante la tecla de función.
  • Área de escaneado máx: 200 (dirección X) x 100 (dirección Y) mm
  • Una placa calefactora de 500°C Max está instalada en el CNC para el calentamiento de la muestra.
  • Se puede sustituir un trozo de vacío de 4" de diámetro por la placa calefactora, que puede sujetar firmemente obleas finas de hasta 6" de diámetro en el portamuestras.
  • Se incluye una bomba de vacío para conectar al mandril de vacío
  • Todo el sistema se coloca en un carro móvil de alta resistencia (600 x 600 x 900L mm)
Placa calefactora
  • Temperatura máxima 500°C
  • Voltaje: AC 220V, 50 - 60 Hz (Puede utilizarse bajo 110V con un transformador)
  • Potencia: 1500W
  • Área de calentamiento: 180 x 180mm

Dimensiones y peso neto
  • Etapa de recubrimiento con bastidor 630 x 500 x 700 mm (ancho x fondo x alto)
  • Generador de plasma 390 x 500 x 220 mm (An x Pr x Al)
  • Controlador CNC: 390 x 400 x 180 (An x Pr x Al)
  • Peso neto: 55 kg

Garantía y certificado
  • Garantía limitada de un año con asistencia de por vida
  • Certificado CE




Instrucciones de uso

Notas sobre la aplicación

Haga clic en el enlace para obtener más información sobre la aplicación AP-PECVD:Deposición química en fase vapor mejorada por plasma a presión atmosférica (AP-PE-CVD) para el crecimiento de películas finas a baja temperatura.
Parte opcional
  • Película de plástico adhesiva azul (PVC) para mandril de vacío, EQ-ECO-519-LD
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