Especialidad

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Horno de vacío vertical máx. 1100C con brida (cámara de cuarzo de 8" de diámetro exterior) - VBF-1200X-V9

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Horno de prensado al vacío de calentamiento rápido hasta 1600C y 50 Mpa con matriz de grafito de 0,5" - OTF-1700X-RHP4

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Horno de calentamiento y prensado ultrarrápido (UHP) de hasta 2900°C y 500 kgf con vacío ultraalto - RTP-MS

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Deposición química en fase vapor mejorada por plasma a alto vacío (tipo CCP) - VTC-PECVD

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Dispositivo de control y eliminación de gases inflamables - GSL-KR200

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Horno compacto de temple controlado por atmósfera - Tubo de 2" de diámetro exterior y 1100C máx. - GSL-1100X-S-VTQ

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Horno compacto para prensado isostático en caliente (HIP) (80IDx130H mm) Máx.1500C hasta 20 Mpa con caja de seguridad deslizante - CM-HIP-3

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Horno compacto de tubo de gas de alta presión (HIP) con diámetro interior de 12 ó 20 mm. hasta 1100C-OTF-1200X-S-HP-30A

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Horno RTP controlado por atmósfera para oblea de 8" hasta 1000 °C - VBF-1050X-H8

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Reactor de alta presión de superaleación de 300 ml ( 35 mm ID) hasta 1100C. - GSL-1100X-RC-NI300

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Horno CSS y RTP de 950°C máx. con soporte giratorio para oblea de 12" - OTF-1200X-RTP-II-CSS-300

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800? Horno de fusión rápida y enfriamiento rápido de fase líquida a Ga Melt-QF-800

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800°C Max. Horno CSS y RTP con soporte giratorio para oblea de 5x5" - RTP-II-5-R

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2800ºC Max. Horno electrolítico de inducción con electrodos móviles - VEF-2800

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Horno electrolítico 1700C con tubo de alúmina de 80 mm y 3 electrodos de grafito - VEF-1700