MTI  |  SKU: FmDOI050505FT2umUS5

Diamond on Oxide Wafer(DOI), 5 mm x 5 mm, 2um de espesor, 10nm Ra

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Diamond on Oxide Wafer(DOI), 5 mm x 5 mm, 2um de espesor, 10nm Ra

MTI


Especificaciones:

  • Película:UNCD (Diamante Ultrananocristalino)
  • Tamaño de la oblea: 5x5x0.5mm
  • Orientación de la oblea de Si: (100) + / - 0.5o
  • Capa aislante: SiO2
  • Espesor de la película de diamante: 2 micras, sin dopar
  • Capa de óxido 1 micra
  • Resistividad estimada: ~ 10E5 ohm-cm
  • Rugosidad de la superficie: según crecimiento, RA < 10 nm
  • Embalaje: Una sala blanca de clase 1000 con bolsa de plástico de clase 100



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