Níquel <111> Film (100nm) + 300 nm SiO2 coated Silicon Wafer -4" dia .(100) P/Boron ,SSP, R:1-20 ohm.cm

Película metálica de níquel

• Espesor del níquel: 100 nm
• Cristalinidad de la película: ( 111) - policristales orientados
• Rugosidad, RMS N/A
  

Especificaciones de la oblea de silicio:

• Tipo conductor: Si tipo P, dopado con B
  
• Resistividad: 1-20 ohm-cm
• Tamaño: 4" de diámetro +/- 0,5 mm x 0,525 +/- 0,025 mm de grosor
• Orientación: (100) +/- 0,^5o
• Pulido: Pulido por un lado
• Rugosidad de la superficie: Prime
• Embalaje: Envasado al vacío en un soporte de oblea individual de 4"
  
• Opcional: puede necesitar una herramienta para manipular la oblea ( haga clic en la imagen para pedirla )

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