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Horno rotativo 1100C PE-HPCVD con evaporador in situ, MFC de 4 canales y bomba de vacío - OTF-1200X-S-II-PEC4

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Horno rotativo PECVD 1100C con bomba de vacío - OTF-1200X-S-II-PECVD

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1100C Horno de tubo de cuarzo (2" Dia.) con Temp. y bomba de vacío - GSL-1100X-50-LVT-LD

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Horno tubular de alta presión y alto vacío de tres zonas 1100C con tubo de superaleación - OTF-1200X-III-HP-80

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1100C Horno tubular de alta presión de tres zonas de superaleación con control de flujo de gas - OTF-1200X-HP-III-80-GF

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Horno tubular 1100C con brida de vacío (zona de calentamiento 12") y controlador de temperatura programable - GSL-1100X-LD

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1100°C Horno de vacío de cámara de 8" de diámetro interior VBF-800X-HV

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Horno de vacío de carga inferior de 1100°C (8,6 "ID, 7,6 litros) - VBF-1200X-E8

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Horno de fusión de crisol de 1100°C con función de agitación para guantera - KSL-1100X-SV-RM

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Horno tubular de doble zona de 1100°C Tubo de cuarzo de 11" y bridas de vacío opcionales (zona de calentamiento de 24") - GSL-1100X-II-11

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Horno de crecimiento de cristales de epitaxia en fase líquida de alta presión ( 1,2 MPa) a 1100°C y sistema de caja de guantes - HP1100X-LPEGB

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1100°C Máx. 8OD7.6 LVhorno de cámara de vacío con brida de paso-VBF-1200X-H8

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1100°C Max IR Calentamiento / enfriamiento rápido y atmósfera controlada Horno de carga inferior VBF1100XRTPASD

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1100°C Max Horno tubular calentado por microondas: opcional 1", 1.57" y 2" Dia. - GSL-MW-25

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1100°C Max. Horno tubular compacto ( 50mm OD) con función TGA de precisión - GSL-1100X-TGA

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1100°C Max. Horno de mufla (12x12x12") con cámara de aleación para desaglomerado - KSL1200X-M-F

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1100°C Max. Fresado rotativo de bolas con función de flujo de gas - OTF-1200X-R5-BM

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Horno de carga superior de 1100°C para celda de sales fundidas o electrólisis - VBF-1200S-MS

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Horno tubular de 1100°C con sublimador de precursores sólidos para capas CVD 2D de TMDs - OTF-1200X-4-NW-UL

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Horno de crisol al vacío de 1100°C con cámara de cuarzo de 4 "OD x 8" H - VBF-1200S-VC