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Forno a tubo scorrevole da 1200 C max (80 mm OD) con flange per il riscaldamento/raffreddamento rapido - OTF-1200X-80-SL

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Forno a tre zone a tubo diviso 1200C Max: zone di riscaldamento da 36" x tubo da 8" - 1200C Max - OTF-1200X-III-8

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Forno tubolare PECVD a due zone da 1200 C max (50 mm OD) con preriscaldatore e scorrimento automatico - OTF-1200X-II-50-PEMSL

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1200C Max. Forno tubolare da 4" con flangia scorrevole - OTF-1200X-100-SF

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1200C max. Forno doppio (tubo da 80 mm di diametro) con un forno scorrevole per TCVD - OTF-1200X-80-DFSL

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1200C Max. Verniciatore ad alta temperatura con supporto di rotazione per un diametro massimo di 4". 4" di diametro. Campione - PTL-HT-4

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1200C max. Forno CVD potenziato al plasma a microonde (MPECVD) con tubo al quarzo da 1'-2'' - OTF-1200X-S-MPECVD

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1200C max. Forno tubolare PECVD con 4 canali di erogazione del gas e pompa del vuoto - OTF-1200X-PEC4LV

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1200C max. Forno PECVD a doppia zona scorrevole con erogazione del gas e pompa del vuoto - OTF-1200X-II-PEC4SL-LD

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1200C Max. Forno a ultrasuoni per pirolisi spray a 3 zone per la sintesi di nano particelle - OTF-1200X-III-PGEP

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Forno rotativo a tubi a tre zone, 1200 °C, max. 5" - OTF1200XIIIR5L

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Forno a muffola 1200C (12" x 8" x 5", 7,2L) con porta di sfiato e finestra in quarzo - KSL-1200X

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Forno a muffola 1200C (12x12x12", 27 L) con controllore programmabile - KSL1200X-M

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Forno rotativo PE-HPCVD a 1200 C con evaporatore in situ, MFC a 4 canali e pompa per vuoto - OTF-1200X-II-PEC4

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Forno a cassetta 1200C (6 "x6 "x7", 4,2 litri) con controller programmabile separato - KSL-1200X-J-F

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Forno a tubo diviso a 1200C (zona di riscaldamento da 18") con tubo e flangia al quarzo opzionali - OTF1200X

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Forno tubolare HPCVD a tre zone da 5" D a 1200 C con sistema di alimentazione della sorgente sequenziale e di co-deposizione fino a 3 crogioli - OTF-1200X-III-HPCVD-S3

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Forno tubolare 1200C con set anticorrosivo: Flange in PTFE e miscelatore di gas - OTF-1200X-80-F3LV-PTFE

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Forno tubolare a 1200 C con scorrimento interno del campione tramite magnete per DVD e RTP - OTF-1200X-S-DVD

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Forno tubolare a 1200 C con meccanismo di spostamento interno per HPCVD - OTF-1200X-S-HPCVD