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Rivestimento di plasma sputtering a 3 target rotanti con 3 target - VTC-16-3HD-LD

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Forno a 3 zone (diametro 5", 1200C max) con flangia scorrevole, miscelatore a gas e pompa del vuoto -OTF-1200X-III-5-C3LVSF

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Forno tubolare a 3 zone con tubo da 8,5" - 11" e flangia (1100C, zona di riscaldamento 12"+12"+12") - GSL-1100X-XX-III

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Forno tubolare a 3 zone con tubo da 8,5" - 11" e flangia (1100C, zona di riscaldamento 12"+12"+12") - GSL-1100X-XX-III

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Set di setacci da 3" di diametro. Set di setacci, n. 200 e 450 maglie con coperchio e vaschetta di fondo - EQ-Sieve-2045

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Porta wafer blu da 3" di diametro (capacità: 25) per la pulizia dei wafer - Blue-PP-3-25

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Porta wafer in PFA da 3" di diametro (capacità: 25) per la pulizia dei wafer - PFA-3-25

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Scatola porta wafer singola con diametro di 3" - inclusi contenitore, coperchio e molla - 10 set/pck - SP5-S3

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Piastra di lappatura in vetro da 3" per la lucidatura - EQ-GLP-300

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Mortaio e pestello in agata naturale di alta qualità da 3" - OP-MTA-3

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Stampo per pressatura di pellet secco con diametro interno di 3" - EQ-Die-75D

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Supporto per campioni di lucidatura da 3" con tre fori da 1" e due pesi morti per la metallurgia - EQ-PF-3H1

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Tubo ceramico in allumina da 3" x 40" (76 OD x 67 ID x 1000 mm L) - TA76D1000

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Lame da taglio diamantate completamente sinterizzate da 3" di diametro x 0,2 mm x 0,5" per seghe a bassa velocità - EQ-DF0302

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Macchina per la stiratura, la rifilatura e la piegatura dei bordi 3 in 1 per l'involucro delle batterie a sacchetto extra large - MSK-119-X

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Sigillatrice 3 in 1 per la tenuta e la sigillatura sottovuoto superiore/laterale e finale per le celle a sacchetto (200 mm di larghezza) - MSK-115-III

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Cavo di alimentazione a 3 pin per cassetta portaoggetti VGB - EQ-VGB-CB

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3,0 mol.% YSZ Substrato ceramico 10x10x0,5 mm, rettificato su entrambi i lati - CmYSZ101005SN

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3,0 mol.% YSZ Substrato ceramico 10x10x0,5 mm, un lato lucidato - CmYSZ101005S1

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3,0 mol.% YSZ Substrato ceramico 10x10x0,5 mm, due lati lucidati - CmYSZ101005S2C