Prodotti

MTI

Wafer di zaffiro Al2O3, piano R, diametro 2" x 0,5 mm, 2sp - ALR50D05C2

MTI

Wafer di zaffiro Al2O3, piano R, diametro 3" x 0,5 mm, 1SP, orientamento con 45 gradi in senso antiorario rispetto alla proiezione dell'asse C sul piano R

MTI

Al2O3- X-tal Barre 0,06 "x,25"

MTI

Wafe in Al2O3-Saffiro, piano R, 0,5 "x0,5 "x0,5 mm, 1SP - ALR121205S1

MTI

Wafe in Al2O3-Saffiro, piano R, 0,5 "x0,5 "x0,5mm, 2SP - ALR121205S2

MTI

Wafe in Al2O3-Saffiro, piano R, 5x5x0,5mm, 2SP - ALR050505S2

MTI

Wafer in Al2O3-Saffiro, piano M, 1 "Dia x 0,5 mm, 2SP - ALM25D05C2

MTI

Wafer di Al2O3-Saffiro, piano R, 10x10x0,5mm, 2SP - ALR101005S2

MTI

Sistema di forni tubolari combinati ALD e PECVD - OTF-1200X-ALD

MTI

Cristallo di quarzo legato per deposizione ad alta sollecitazione - EQ-QC-ALLOY-LD

MTI

Substrato ceramico AlN 1 "x1 "x 0,5mm, 1SP - CmAlN252505S1

MTI

Substrato ceramico AlN 1 "x1 "x 0,635 mm, rettifica fine

MTI

Substrato ceramico AlN 10x10x 0,5 mm, 1SP - CmAlN101005S1

MTI

Substrato ceramico AlN 114,3 mm x 114,3 mm x 0,5 mm, lappato su entrambi i lati - CmAlN11411405SN

MTI

Substrato ceramico AlN 2 "x2 "x 0,5 mm, 1SP

MTI

Substrato ceramico AlN 2 "x2 "x 1,0 mm, come lappatura - CmAlN505010SN

MTI

Substrato ceramico AlN 2 "x2 "x0,254 mm, come lappato, CmAlN50500254SN

MTI

Templato AlN su 4" di silicio (Si <111>tipo P, drogato B) 4 "x 500 nm - FmAlNonSiBc101D05C1FT500nmUS

MTI

Template AlN su zaffiro (0001) 2 "x 0,5mm, un lato lucidato, film AlN: 5000nm - FmAlNonALc50D05C1FT5000US5

MTI

Template AlN su zaffiro (0001) 2 "x 0,5 mm, un lato lucidato, film AlN: 1000nm - FmAlNonALc50D05C1FT1000US