Spettrometro a riflessione per la misurazione dello spessore dei film da 15 nm a 50 um - TFMS-LD

• Misurazione e analisi in tempo reale: strati multistrato, sottili, spessi, autoportanti e non uniformi
• Ampia libreria di materiali: oltre 500 materiali
• Supporto di materiali parametrizzati: Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA
• Flessibilità: da tavolo o in situ, ricerca e sviluppo o in linea.
• Misura: spessore, costanti ottiche, rugosità superficiale
• Intuitivo e potente: misurazione e analisi con un solo clic

• Ossidi (vedi immagine 1 per un esempio)
• Nitruri
• Fotoresist
• Polimeri (vedi immagine 2 per un esempio)
• Semiconduttori: Si, aSi, polySi
• Rivestimenti duri: SiC, DLC
• Rivestimenti polimerici: Paralene, PMMA, poliammidi
• Rivestimento metallico sottile (spessore < 50 nm. Vedi immagine 3 per un esempio)

  Fig. 1 - 3 um di LiNbO3	Fig. 2 - 45 µm di PET	Fig. 3 - 20 nm di Cu

• da 15 nm a 75 µm per materiali non metallici e traslucidi come quelli sopra elencati 
  
• Nota: i film metallici possono essere misurati in modo affidabile solo fino a 50 nm; per i film più spessi sono necessarie misurazioni a raggi X
  

• da 400 nm a 1100 nm

• 0,01 nm o 0,01%

• 0,2% o 1 nm

• 0,02 nm o 0,03%

• minimo 2 mm

• Minimo 5 mm x 5 mm per una misurazione affidabile  

• CMOS da 2048/4096 pixel
• ADC a 16 bit
• Intervallo di lunghezze d'onda: 400 - 1100 nm
• Risoluzione spettrale: < 1 nm
• Alimentazione: 100–240 V CA, 50/60 Hz, 20 W
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• Lampada alogena al tungsteno da 5 W
• CT 2800 gradi
• Durata: 10.000 ore

• Fibra ottica, nucleo della fibra da 400 um
• con braccio per lo spettrometro e braccio di illuminazione

• Il campione di pellicola è rivolto verso l'alto, con la sonda e la sorgente luminosa rivolte verso il basso
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• Connettore USB per la comunicazione con il PC
• È incluso un computer portatile nuovo di zecca con software installato, pronto all’uso

• Ampia libreria di valori di indice di rifrazione (n) e coefficiente di estinzione (k) per i materiali di substrato più comuni: metallici, dielettrici, amorfi e cristallini
• Capacità di analizzare sia semplici che i più complessi stack di film
  
• Gli strumenti di stima degli errori e di simulazione consentono di tenere conto degli effetti delle condizioni variabili
• Supporto per materiali parametrizzati con approssimazioni che rappresentano la dispersione ottica in un intervallo spettrale desiderato utilizzando pochi coefficienti regolabili
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• Controllo remoto (TCP) basato sul protocollo Modbus a un costo aggiuntivo

• Sono inclusi, come standard a film sottile per la verifica della misurazione dello spessore, un riferimento in Si nudo e un wafer di prova in ossido di silicio dello spessore di 200 nm
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Dimensioni

• 205 mm L x 250 mm W x 105 mm H (8" L x 10" W x 4" H)

Peso netto

• 4,5 kg (10 libbre)

Dimensioni di spedizione

• 460 mm L x 460 mm W x 460 mm H (18" L x 18" W x 18" H)

Peso di spedizione

• 9,1 kg (20 libbre)

Garanzia

• Garanzia limitata di un anno con assistenza a vita. (Le parti soggette a usura, come lo standard di misurazione a film sottile, non sono coperte dalla garanzia)

Istruzioni per l’uso

Nota applicativa

• È possibile scaricare qui un esempio di misurazione dello spessore di un film sottile metallico utilizzando lo spettrometro di riflettanza (cliccare sull’immagine qui sotto)
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