MTI  |  SKU: FmCeO2onYSZa101005S2FT40nm

Film di CeO₂ (40 nm su un lato) su YSZ <100> 10×10×0,5 mm, 2 sp - FmCeO₂ su YSZ a 10×10×0,5 S 2 FT 40 nm

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Film di CeO₂ (40 nm su un lato) su YSZ <100> 10×10×0,5 mm, 2 sp - FmCeO₂ su YSZ a 10×10×0,5 S 2 FT 40 nm

MTI

Specifiche

 

Composizione del film sottile epitassiale

<100> CeO₂
Spessore del film epitassiale 40 nm ± 10 nm
Metodo di crescita Rivestimento a rotazione
FWHM epitassiale

< 5 o 

Substrato

<100>, YSZ, 10 × 10 × 0,5 mm, lucidato su entrambi i lati

Confezione

Sigillato sottovuoto in una scatola e in un sacchetto di plastica

   Curva
XRD e curva di oscillazione tipiche (clicca sulla miniatura per ingrandire)		     
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