Template AlN su zaffiro (0001) 2 "x 0,5 mm, un lato lucidato, film AlN: 1000nm - FmAlNonALc50D05C1FT1000US

Il modello in AlN su zaffiro viene realizzato mediante un metodo basato sulla deposizione da vapore al plasma di nanocolonne (PVDNC). Il modello in AlN rappresenta una soluzione economicamente vantaggiosa in sostituzione del substrato monocristallino in AlN.

Specifiche

• Dimensioni 2" rotondo
• Orientamento del film sottile di AlN: (0001)
• Orientamento del substrato di zaffiro: asse c (0001) +/- 1,0 gradi.
  Tipo e drogaggio del film di AlN Non drogato, semisolante
• Densità dei difetti macroscopici: <=5 cm^⁻²
• Finitura della superficie frontale (faccia Al): Come cresciuto
  
• Finitura della superficie posteriore (zaffiro): finitura così come ricevuta
•  Superficie utile >90% 
•  Area di esclusione dei bordi 1 mm
•   Confezione Contenitore per singolo wafer
• Spessore dello strato di AlN 1000 nm +/- 5%
• Lucidatura: Lucidato su un lato