Template AlN su zaffiro (0001) 2 "x 0,5mm, un lato lucidato, film AlN: 5000nm - FmAlNonALc50D05C1FT5000US5

Il modello in AlN su zaffiro viene realizzato mediante un metodo basato sulla deposizione al plasma di nanocolonne (PVDNC). Il modello in AlN rappresenta una soluzione economicamente vantaggiosa in sostituzione del substrato monocristallino di AlN.

Specifiche

• Dimensioni 2” rotondo 
•  Dimensioni: 50 mm ± 2 mm
•  Orientamento del substrato di zaffiro: asse c (0001) ± 1,0 gradi
• Tipo e drogaggio: Non drogato, semisolante
• Densità dei difetti macroscopici: <5 cm^⁻²
• Finitura della superficie frontale (faccia in Al): così come cresciuta
  
• Finitura della superficie posteriore dello zaffiro: finitura così com’è
•  Area superficiale utilizzabile >90% 
•  Area di esclusione dei bordi 1 mm
•   Confezione Contenitore per singolo wafer
• Spessore dello strato di AlN 5000 nm , (± 10%)