Template AlN su zaffiro (0001) 4" x 0,5 mm, un lato lucidato, film AlN: 1000nm - FmAlNonALc101D05C1FT1000US

Il modello AlN su zaffiro è realizzato con un metodo basato sulla deposizione da vapore al plasma di nanocolonne (PVDNC). Il modello AlN rappresenta una soluzione economicamente vantaggiosa in sostituzione del substrato monocristallino di AlN.

Specifiche

• Dimensioni 4” rotondo 
•  Dimensioni: 100 mm ± 2 mm
•  Orientamento del substrato di zaffiro: asse c (00.1) ± 0,3 gradi
• Tipo e drogaggio: Non drogato, semi-isolante
• Densità dei difetti macroscopici: <=5 cm^⁻²
• Finitura della superficie frontale (faccia in Al): così come cresciuta
• Finitura della superficie posteriore dello zaffiro: finitura così com’è
•  Superficie utilizzabile >90% 
•  Area di esclusione dei bordi 1 mm
•   Confezione Contenitore per singolo wafer
• Spessore dello strato di AlN 1000 nm, (± 10%)