Template AlN su zaffiro(0001) 2 "x 0,5 mm, due lati lucidati, film AlN: 1000nm

Il modello in AlN su zaffiro viene realizzato mediante un metodo basato sulla deposizione da vapore al plasma di nanocolonne (PVDNC). Il modello in AlN rappresenta una soluzione economicamente vantaggiosa in sostituzione del substrato monocristallino in AlN.

Specifiche

• Dimensioni: 2" rotondo
•  Orientamento del substrato di zaffiro: piano C con deviazione di 0,20° verso il piano m
• Tipo e drogaggio del film di AlN: Non drogato
• Densità dei difetti macroscopici: <5 cm^⁻²
• Finitura della superficie frontale (faccia Al): Come cresciuta
  
• Finitura della superficie posteriore dello zaffiro: finitura così com’è
• Area superficiale utilizzabile: >90% 
• Area di esclusione dei bordi: 1 mm
• Confezione: Contenitore per singolo wafer
• Spessore dello strato di AlN: 1000 nm +/- 5%
  
• Lucidatura: Entrambi i lati lucidati