LaAlO3, (100) orn. Lucidatura EPI 3" x 0,5mm wafer 1 SP - LAOa76D05C1US
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LaAlO3, (100) orn. Lucidatura EPI 3" x 0,5mm wafer 1 SP - LAOa76D05C1US
MTI
| Il monocristallo di LaAlO₃ presenta una buona compatibilità reticolare con molti materiali a struttura perovskitica. È un eccellente substrato per la crescita epitassiale di superconduttori ad alta temperatura critica (Tc) e di film sottili magnetici e ferroelettrici. Le proprietà dielettriche del cristallo di LaAlO3 sono particolarmente adatte per applicazioni a microonde a bassa perdita e di risonanza dielettrica. Specifiche del substrato:
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| Proprietà fisiche tipiche | |
| Struttura cristallina | Pseudocubica a=3,792Š |
| Metodo di crescita | Czochralski |
| Densità | 6,52 g/cm³ |
| Punto di fusione | 2080 °C |
| Espansione termica | 10 (×10⁻⁶/°C) |
| Costante dielettrica | ~ 25 |
| Tangente di perdita a 10 GHz | ~3×10⁻⁴ a 300 K, ~0,6×10⁻⁴ a 77 K |
| Colore e aspetto | Da trasparente a marrone a seconda delle condizioni di ricottura. Gemellature visibili sul substrato lucidato |
| Stabilità chimica | Insolubile negli acidi minerali a 25 °C e solubile in H₃PO₃ a > 150 °C |

