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Substrato metallico di Ni (policristallino): 10x10 x 0,5 mm, 1 lato lucidato - McNi101005S1Poly

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Substrato metallico di Ni (policristallino): 10x10 x 1,0 mm, 1 lato lucidato

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Substrato a cristallo singolo di Ni, <100>10 x 5 x 0,5 mm, 1 lato lucidato

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Substrato a cristallo singolo di Ni, <100>10x10 x 0,5 mm, 1 lato lucidato - McNia101005S1US5

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Substrato a cristallo singolo di Ni, <100>10x10 x 1,0 mm, 1 lato lucidato - McNia101010S1US5

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Substrato a cristallo singolo di Ni, <100>5x5 x 1,0 mm, 1 lato lucidato

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Substrato a cristallo singolo di Ni, <110>10x10 x 0,5 mm, 1 lato lucidato - McNie101005S1US5

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Substrato a cristallo singolo di Ni, <110>10x10 x 1,0 mm, 1 lato lucidato - McNie101010S1US5

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Substrato a cristallo singolo di Ni, <110>20x20 x 1,0 mm, 1 lato lucidato - McNie202010S1US0

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Substrato a cristallo singolo di Ni, <110>, 30 Dia. x 1,0 mm, 1 lato lucidato - McNie30D10C1US0

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Substrato a cristallo singolo di Ni, <110>5x5 x 1,0 mm, 1 lato lucidato

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Substrato a cristallo singolo di Ni, <111>10x10 x 1,0 mm, 1 lato lucidato - McNic101010S1US5

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Substrato a cristallo singolo di Ni, <111>5x5 x 1,0 mm, 1 lato lucidato

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Tubo senza saldatura in superlega a base di Ni: 80 OD x 70 ID x 1200 L (mm), 1100C Max. Temperatura di lavoro

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Tubo in superlega a base di Ni con flangia inclusa: OD30x ID12x L580 (mm)-Tubo-HP-30-12-580

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Nichel <111> Film (100nm) + 300 nm di SiO2 rivestito Wafer di silicio -4" dia .(100) P/Boron ,SSP, R:1-20 ohm.cm

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Nichel <111> Film (100nm) rivestito di wafer Si (100) P/Boron, 10x10x0,5mmSSP, R:1-20 ohm.cm

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Crogiolo in nichel con coperchio (capacità opzionale: 30 ml, 50ml o 100ml) - CNi22D36H

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Rotolo di feltro di nichel (1000 mm L x 200 mm L x 0,45 mm T) come substrato conduttivo per batterie, celle a combustibile ed elettrolizzatori - EQ-bcnf-045m

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Foglio di feltro di nichel (100 mm L x 100 mm W x 0,45 mm T) come substrato conduttivo per batterie, celle a combustibile ed elettrolizzatori - EQ-bcnf-045