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Piastra campione in mullite sinterizzata (250 mm L x 180 mm L x 8 mm T) Max. 1400C - MLPlate-25181

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Film sottile SiO2+Pt su substrato di Si (drogato con B), 10x10x0,5mm, 1sp (SiO2=500nm, Pt=60nm)

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Film sottile SiO2+Ti+Pt (111) su substrato di Si, 5x5x0,525mm, 1sp, tipo P, drogato B, (SiO2=300nm, Ti=10nm, Pt(111)=150nm)

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Film sottile SiO2+Ti+Pt su substrato di Si, 10x5x0.5mm, 1sp, drogato B, (SiO2=500nm, Ti=50nm, Pt=200nm)

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Film sottile di SiO2+Ti+Pt(111) su substrato di Si, 2 "x0,279mm, 1sp di tipo P drogato B.R:1-20 ohm.cm

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Film sottile SiO2+Ti+Pt(111) su substrato di Si, 4 "x0.525mm, 1sp P-tipo B-drogato, (SiO2=300nm, Ti=10nm, Pt(111)=150nm)

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Miscelatore centrifugo sottovuoto ad alta produttività a sei contenitori (30mL) - MSK-PCV-30

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Six-Container Vacuumable Planetary Centrifugal Mixer - MSKPCEVA630

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Forno a tubo diviso a sei zone (tubo al quarzo da 2-4" opzionale x 2 metri di lunghezza, 1200C max.) - OTF-1200X-VI-2M-UL

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SKZD-2 bocchetta d'aria - SKZD-AVent

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SKZD-2 Alimentatore automatico di fanghi per qualsiasi lucidatrice da 8" - 15" - EQ-SKZD-2

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Kit di supporto Slicone per Laser Rod Box, selezionabile da 3 a 8 mm di diametro - SMY-D3-D8

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Teste per fustelle con larghezza opzionale di 50 100, 150, 200 o 300 mm per il rivestimento di fustelle fai da te - SDH

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Macchina per la verniciatura di lastre a fessura con mandrino a vuoto (W200XL300 mm) e riscaldamento opzionale - MSK-AFA-PD200

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Stampo di pressatura per pellet secco di piccolo diametro (10 mm di diametro interno) per una pressatura ad alta produttività - EQ-Die-10S

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Sistema PECVD per piccoli lotti (12 pezzi da 6" Wafer) (tipo CCP) per test pilota - PECVD-8-16

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Piccolo sistema di coltivazione di cristalli CZ per Cristalli singoli < 1" fino a 2100C - IMCS-2000-CZ

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Piccolo sistema di deumidificazione con raffreddamento ad aria (RH 10% max) - MSK-ADS-600E

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Tubo di quarzo di piccolo diametro per fiala da vuoto con opzione 1/8", 1/4", 1/2'' e 3/4" OD (200 mm L) - QZTube-S

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Tubo di quarzo di piccolo diametro con flangia, un'estremità chiusa - TQ20F