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Tubo rotondo a 4 fori, allumina 99,8%, 1/4" O.D. x 28,5" di lunghezza - MC-AXF1180-19-24-1-LD

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Alimentatore di fanghi di precisione da 4 litri con pompa a cavità progressiva per il rivestimento di fessure R2R - MSK-156

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Applicatore di film a 4 percorsi (4 x 25 mm di larghezza) per il rivestimento multi-composizione ad alta produttività - Se-KTQ-4-25

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Applicatore di pellicola a 4 percorsi con larghezza e distanza opzionale (80/120 mm) di 5 - 20 m/50 - 200 m - Se-KTQ-4S

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Unità di verniciatura per immersione a 4 posizioni in funzione dell'angolo - PTL-AADC

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Sistema di rivestimento SILAR a 4 posizioni con camera stagna e agitatore magnetico - PTL-SC-4S-LD

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Lama diamantata sinterizzata con diametro di 4" x 0,017" (0,45 mm) T x 0,5" di perimetro - EQ-DB-153742-LD

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4" Dia. Piastra riscaldante ad alto vuoto fino a 800C per il rivestimento sputtering fai da te - HVHP-100

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Porta wafer in PFA da 4" di diametro (capacità: 25) per la pulizia dei wafer - PFA-4-25

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Scatola porta wafer singola da 4" di diametro - inclusi contenitore, coperchio e molla - 10 set/pck - SP5-S4

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Mortaio e pestello di agata naturale di alta qualità da 4" - OP-MTA-4

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Pellicola epi-film di Ge di tipo N da 4" su wafer di silicio di tipo N, spessore 0,5 um - FmGeNtypeonSiNtypea101D05C1US

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Apparecchio di lucidatura da 4" con dima a vuoto per la diluizione e la lucidatura di precisione e automatica - EQ-PF-4-1P

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Supporto per campioni di lucidatura da 4" con otto fori da 1" e due pesi morti per la metallografia - EQ-PF-8H1

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Tubo di quarzo da 4" per forni rotativi a tubo a due zone MTI - QZTube-R-D

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