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8% YSZ Substrato ceramico 100x100x0,25 mm, rettifica fine

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8% YSZ Substrato ceramico 10x10x0,2 mm, un lato lucidato

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8% YSZ Substrato ceramico 10x10x0,5 mm, un lato lucidato

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8% Substrato ceramico YSZ 2 "x 2 "x0,5 mm, un lato lucidato

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8'' Dia. Soffione a spillo per depositi CVD - EQ-SH-8

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Tester batteria ibrido a 8 canali e potenziostato fino a 5A-5V con laptop e software - BST8-HBP-5A

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Macchina per la formazione di SEI sotto vuoto a 8 canali per celle prismatiche - MSK-131-SM8

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Sistema di fusione ad arco automatico a 8 stazioni (100 g) con funzioni di agitazione o colata SP-MSM-8

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Sistema di fusione ad arco automatico a 8 stazioni con colata sotto vuoto - SP-MSM-VC-8

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Forno tubolare al quarzo da 8,5" con flange di raffreddamento ad acqua (1100C, zona di riscaldamento da 24") - GSL-1100X-8,5

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Pulitore/incisore al plasma RF da 8,5" con pompa a vuoto. (12 litri, 13,56 Mhz, 80W max.) - EQ-PCE-8

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Reattore rotante a 8/6/4 vasche (50 ml) fino a 250°C e 10 MPa (miscelazione e mulino a sfere) - BGP-R8-D

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Contenitori in lega Cr12MoV da 80 mL con adattatore per la macinazione centrifuga planetaria sottovuoto - PCV-SS-80

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Flangia di tenuta in PTFE da 80 mm con valvole - EQ-FG-80PTFE

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80 OD x 73 IDx 300L mm Tubo di quarzo semiaperto per forno tubolare fai da te/riscaldatore a induzione - HQT80

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800? Forno di fusione e tempra rapida dalla fase liquida al Ga Melt-QF-800

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Forno a camera ad alto vuoto e pressione a 800°C (500x500x500 mm fino a 3,5 bar) GSL-800-L

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800°C max. Forno CSS e RTP con supporto rotante per wafer 5x5" - RTP-II-5-R

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Sistema di deposizione a strato atomico potenziato da plasma a 800°C (PE-ALD) con stadio rotante da 4" - ALD-800X-4-PE

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Raccoglitore a tamburo 80Dx200L con regolatore di velocità fino a 4000 giri/min per l'elettrofilatura fai da te - MSK-ESDC-80-4000