Rotation Powder ALD 4" Sistema de horno tubular hasta 1200C - ALD-1200X-R-4

El ALD-1200X-R-4 es un horno de tubo giratorio de 4" que combina válvulasALD de dos canales y un canal de suministro de vapor líquido (deposición de capa atómica), así como cuatro canales de suministro de gas para realizar el recubrimiento de la superficie del polvo mediante ALD y CVD. El diseño inteligente hace ALD más rentable y asequible para cada grupo de investigación.

ESPECIFICACIONES:

Panel de Control	Todos los parámetros de vapor, ALD y flujo de gas están integrados en un carro móvil y controlados por PLC a través de un panel de pantalla táctil de 6": Válvula ALD de dos canales Para canales de suministro de gas MFC Haga clic en la siguiente imagen para ver la interfaz de control
Válvula ALD	Dos válvulas ALD con controlador de impulsos (duración mínima de 10 ms ) Posibilidad de calentamiento con actuadores térmicos
Generador de vapor líquido	Se incluye un generador automático de vapor líquido que se conecta a la válvula ALD
Horno de rotación	Máximo 1100ºCpara calentamiento continuo Dos controladores digitales de temperatura de precisión programables con 30 segmentos. Potencia de entrada: 208 - 240V AC de entrada, una sola fase a máx. 4KW Velocidad de rotación: 0 - 10 RPM Tubo de cuarzo de 4" como el dibujo de abajo Cuatro palas mezcladoras Dimensión
Manómetro anticorrosivo	Rango de medición de 3,8x10-5 a 1125 Torr Anticorrosivo, independiente del tipo de gas Alta precisión y reproducibilidad en atmósfera para una detección fiable de la presión atmosférica La rápida detección atmosférica elimina el tiempo de espera y acorta el ciclo del proceso Elemento sensor plug & play fácil de cambiar Haga clic en la imagen para ver las especificaciones detalladas.
Bomba de vacío ( opcional)	10E-2 Torr vacío se puede lograr dentro del tubo de procesamiento La bomba de vacío no está incluida, le sugerimos que pida una bomba seca para el proceso CVD haciendo clic en la siguiente imagen
Más Bubbler Opcional	Haga clic en la imagen de abajo para pedir burbujeador o evaporador para CVD, y abajo a la derecha ( 1-2) para Módulo de control de presión constante(Foto derecha 2) Puede añadir cristal de cuarzoytermopar para controlar el grosor y la temperatura de la película fina con un coste adicional.
Garantía	Garantía limitada de un año con asistencia de por vida (la garantía no cubre las piezas consumibles, como tubos de procesamiento, juntas tóricas y elementos calefactores; solicite las piezas de repuesto en los productos relacionados a continuación).
Conformidad	Certificado CE La certificación NRTL o CSA está disponible bajo petición y con coste adicional.
Notas de aplicación Haga clic aquí para saber cómo a un regulador de gas	Los hornos tubulares con tubos de cuarzo están diseñados para su uso en vacío y a baja presión < 0,2 bares / 3 psi / 0,02 Mpa Atención: Debe instalarse un regulador de presión de dos etapas en la botella de gas para limitar la presión por debajo de 3 PSI para un funcionamiento seguro. Haga clic aquí para conocer la instalación de un regulador de gas. El caudal de gas debe limitarse a < 200 SCCM (o 200 ml/min) para reducir los choques térmicos en el tubo. Definición del límite de vacío para todos los hornos tubulares de cuarzo: * Las presiones de vacío sólo pueden utilizarse con seguridad hasta 1000°C Haga clic aquí para saber cómo montar un tubo de cuarzo/cerámica y una brida de vacío para el horno tubular MTI.
Aplicación	Utilización de ALD para reducir significativamente la elevada impedancia interfacial sólido-sólido entre el electrolito de granate y los materiales del electrodo. Artículo relacionado: Reducción de la impedancia interfacial en baterías de Li-metal de estado sólido basadas en granate
Instrucciones de uso