Cu Epi Film on Si

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Película de Cu sobre Ta/SiO2/Oblea de silicio, Cu=400 nm Ta=50nm SiO2=300nm, Si(100) tipo P dopado con B 10x10x0.525mm, 1sp

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Película de Cu sobre Ta/SiO2/ Oblea de silicio, Cu=400 nm Ta=50nm SiO2=300nm, Si(100) tipo P dopado con B5x5x0,525mm, 1sp

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Película de Cu sobre Ta/SiO2/ Oblea de silicio, Cu=100 nm Ta=50nm SiO2=300nm, Si(100) tipo P dopado con B 10x10x0.525mm, 1sp

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Película de Cu sobre Ta/SiO2/ 4 "Oblea de silicio, Cu=400 nm Ta=50nm SiO2=300nm, Si(100) tipo P dopado con B 4 "x0,525mm, 1sp

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Película de Cu sobre Ta/SiO2/ 4 "Oblea de silicio, Cu=100 nm Ta=50nm SiO2=300nm, Si(100) tipo P dopado con B 4 "x0,525mm, 1sp

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Cu Film on Ta/Silicon Wafer, Cu=100 nm Ta=20nm,,Si(100) B-doped ,10x10x0.525mm,R:1-20 ohm.cm, 1sp

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Cu Film on Ta/Silicon Wafer , Cu=100 nm Ta=20nm,,Si(100) B-doped ,10x5x0.525mm,R:1-20 ohm.cm, 1sp