Horno tubular de 2" para CVD asistido por plasma de microondas (MPCVD) a 1200°C - GSL-1200X-50-MWPE
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Horno tubular de 2" para CVD asistido por plasma de microondas (MPCVD) a 1200°C - GSL-1200X-50-MWPE
MTI
GSL-1200X-50-MWPE es un horno tubular de CVD asistido por microondas (MPCVD). Integra el generador de microondas de 2,45 GHz, módulos de calentamiento y un horno tubular de cuarzo de 2" de diámetro exterior con brida sellada al vacío para proporcionar plasma estable de 800oC a 1200oC bajo ~4,5 torr de vacío.
Es el horno más rentable tanto para hornos tubulares de vacío sin plasma como para MPCVD para investigación de nanomateriales.
| Características del horno |
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| Potencia |
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| Microondas |
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| Módulo de calentamiento y Tubo de procesamiento |
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| Bridas y vacío |
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| Temperatura de trabajo |
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| Controlador de temperatura |
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| Conformidad |
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