Hornos PECVD

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Horno rotativo 1100C PE-HPCVD con evaporador in situ, MFC de 4 canales y bomba de vacío - OTF-1200X-S-II-PEC4

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Horno rotativo PECVD 1100C con bomba de vacío - OTF-1200X-S-II-PECVD

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Horno de doble tubo deslizante 1200C con 2 tubos y bridas para PECVD - OTF1200XSDFPESL

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Horno tubular PECVD de dos zonas y 1200C máx. (50 mm de diámetro exterior) con precalentador y deslizamiento automático - OTF-1200X-II-50-PEMSL

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1200C Max. Horno tubular PECVD con 4 canales de suministro de gas y bomba de vacío - OTF-1200X-PEC4LV

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1200C Max. Horno PECVD deslizable de doble zona con suministro de gas y bomba de vacío - OTF-1200X-II-PEC4SL-LD

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1200C Max. Horno de pirólisis por pulverización ultrasónica de 3 zonas para la síntesis de nanopartículas - OTF-1200X-III-PGEP

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Generador de RF de 300 W y 13,56 MHz para horno tubular de 50, 80 ó 125 mm de diámetro exterior - OTF-PECVD-RF

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Horno de tubo partido PECVD de 5" (1200C máx.) con estación de bomba de vacío - OTF-1200X-5L-PE

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Horno tubular rotativo de 5" con alimentación y recepción para PE-CVD en polvo y limpieza - OTF-1200X-III-R5-PECVD

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Sistema combinado de horno tubular ALD y PECVD - OTF-1200X-ALD

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Horno PECVD compacto autodeslizante con tubo de 2" y bomba de vacío, Max. 1200C - OTF-1200X-S50-PESL

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Sistema rollo a rollo PE-CVD para crecimiento continuo de película sobre alambre o lámina - OTF-1200X-II-PE-RR

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Sistema PECVD (tipo CCP) de lotes pequeños (12 unidades de oblea de 6") para pruebas piloto - PECVD-8-16