MTI  |  SKU: GSL1100XPJF-A

Haz de plasma atmosférico con sistema de barrido automático para el tratamiento de superficies- GSL1100X-PJF-A

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Haz de plasma atmosférico con sistema de barrido automático para el tratamiento de superficies- GSL1100X-PJF-A

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El GSL1100X-PJF-A combina un haz de plasma atmosférico con una mesa de trabajo automática de dos dimensiones, lo que permite que el haz de plasma escanee la superficie de la muestra de acuerdo con la configuración del programa y que el recubrimiento o tratamiento de la superficie sea consistente y uniforme. El sistema consta de un generador de RF, un tubo flexible de suministro de gas, un cabezal de haz de plasma, una mesa de trabajo X-Y con un portamuestras de mandril de vacío y una caja de control programable. El haz de plasma puede activar y limpiar rápidamente la superficie del material a baja temperatura sin vacío, como obleas de cristal único, componentes ópticos, plásticos, etc., y también puede crear una película de CVD mejorada por plasma sobre el sustrato mediante una mezcla de gas químico a presión atmosférica.


ESPECIFICACIONES

Potencia de entrada para plasma 208 V - 240 VCA, 50/60 Hz, < 1000 W
Generador RF
Frecuencia de salida: 20-23 kHz, 25KV (haga clic en la imagen de abajo - izquierda para ver las especificaciones detalladas)
Cabezal del haz de plasma: Cabezal redondo: 10-12mm
Presión de gas de entrada y gases de trabajo
  • 40 PSI mín.(0.055 Mpa)
  • Aire, N2, Ar, He o cualquier gas mezclado (no gases inflamables y explosivos)
Presión de trabajo del plasma 7- 10 PSI

Ambiente de trabajo
  • Temperatura de trabajo < 42°C
  • Humedad: ? 40% HR
  • Sin gas inflamable

Etapa de muestreo y controlador
  • Las dos dimensiones X-Y son accionadas por motores paso a paso y controladas por la caja de control SBC.
  • El eje Z es ajustable manualmente.
  • La caja de control tiene una pantalla LCD y el programa de escaneado puede ajustarse mediante la tecla de función.
  • Área de escaneado máx: 8" x 9"
  • En el portamuestras X-Y se instala un trozo de vacío de 4" de diámetro, que puede empapar firmemente obleas finas de hasta 6" de diámetro en el portamuestras
  • Se incluye una bomba de vacío para conectar el trozo de vacío
  • Todo el sistema se coloca en un carro móvil de alta resistencia (600x600x 800Lmm)
  • Opcional: Se puede instalar una placa calefactora de hasta 500°C en la etapa de movimiento con una modificación de fabricación (disponible bajo pedido con coste adicional). Además, se puede colocar dentro de una caja de guantes para operar bajo una atmósfera interior de gas o dentro de una campana extractora para gases nocivos (véanse las imágenes de abajo a la derecha).

Dimensiones y peso neto
  • Dimensiones de la etapa de revestimiento: 560mm Largo x 483mm Ancho x 609mm Alto (Dimensiones del Marco de Soporte: 420mm Largo x 305mm Ancho x 457mm Alto)
  • Dimensiones del generador de plasma: 406mm L x 508mm A x 230mm H
  • Caja de control de movimiento Dimensiones: 330mm Largo x 305mm Ancho x 152mm Alto
  • Peso neto: 55 kg

Garantía y certificado
  • Un año de garantía limitada con asistencia de por vida
  • Certificado CE




Instrucciones de uso

Notas de aplicación

Haga clic en el enlace para obtener más información sobre la aplicación AP-PECVD:Deposición química en fase vapor mejorada por plasma a presión atmosférica (AP-PE-CVD) para el crecimiento de películas finas a baja temperatura.
Parte opcional
  • Película de plástico adhesiva azul (PVC) para mandril de vacío, EQ-ECO-519-LD
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