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OTF-1200X-II-50-PEC4SL
1200C Max. Horno PECVD deslizable de doble zona con suministro de gas y bomba de vacío - OTF-1200X-II-PEC4SL-LD
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1200C Max. Horno PECVD deslizable de doble zona con suministro de gas y bomba de vacío - OTF-1200X-II-PEC4SL-LD
MTI
OTF-1200X-II-PEC4SL es un sistema de horno tubular PE-CVD deslizable multizona que consta de una fuente de plasma RF de 300 W, con tamaño de tubo opcional y un raíl deslizable integrado, un caudalímetro másico de precisión de 4 canales con tanque de mezcla de gas y una bomba de vacío sin aceite de alta calidad. Este horno PE-CVD es una nueva herramienta para cultivar nanohilos o grafeno con las siguientesventajas:
- Procesamiento a menor temperatura en comparación con el CVD convencional
- Alta velocidad de calentamiento y enfriamiento mediante un horno deslizante
- Cada zona de calentamiento crea un gradiente térmico de hasta 200ºC
- Temperatura máxima de trabajo de 1100ºC
- Ofrece una amplia gama de deposición de materiales, como nanocables (o tubos) de carbono y ZnO y grafeno de una sola capa
| Modelo | OTF-1200X-II-50-PEC4SL | OTF-1200X-II-80-PEC4SL | OTF-1200X-III-5-PEC4SL | ||
| Tamaño del tubo (Seleccione en la barra de opciones) | 2" (50mm) OD x 1.7" ID x 71" Longitud | 3.14" (80mm) OD x2.83" ID x71'' L | 5" (130mm) OD x 4.8" ID x 79'' Longitud | ||
| Horno | OTF-1200X-II-50 | OTF-1200X-II-80 | OTF-1200X-III-S-130 | ||
| Características |
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| Fuente de alimentación de plasma RF ![]() |
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| Estación de bomba de vacío y válvulas |
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| Caudalímetros másicos y estación de mezcla de gases |
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| Dimensiones totales | | ||||
| Peso y dimensiones de envío | Peso del envío: 1500lbs Total 4 Palets: (1) | ||||






