Equipo de recubrimiento por pulverización catódica de plasma RF/DC de 3 cabezales para polvos con sistema de purificación de gas de 1 PPM - VTC-3HD-VP

• Monofásica 220VAC +/- 10%, 50 / 60 Hz
• 2000 W (incluyendo una bomba de vacío y un enfriador de agua)
• Si la tensión es de 110 V, se puede pedir un transformador de 3000 W en MTI (Haga clic en la imagen de la izquierda para ver los detalles)

• Tres fuentes de potencia para sputtering están integradas en una caja de control (Haga clic en la imagen de abajo para ver las especificaciones detalladas)
• Fuente DC: 500 W de potencia para el recubrimiento de materiales metálicos (Foto 1)
• Fuente RF: 300 W de potencia, 13,56 MHz de frecuencia para el recubrimiento de materiales no conductores (Foto 2)

Cabezal de sputtering magnetrón

Blanco para sputtering

• Requisitos de tamaño del cátodo: 1" diámetro x 1/8" espesor máximo
• Rango de distancia de pulverización catódica: 50 - 80 mm ajustable
• Ángulo de pulverización catódica 0 - 25° ajustable
• Se incluyen cátodos de Cu y _Al2O3 de 1" de diámetro para pruebas de demostración
• Varios cátodos para sputtering de 1" de óxido están disponibles bajo pedido con coste adicional
• Para la fijación de los cátodos, se incluyen placas de soporte de cobre de 1 mm y 2 mm. Puede solicitar epoxi plateado y placas de soporte de cobre adicionales a MTI
  

Cámara de vacío

Portamuestras de vibración

• La amplificación de la vibración es ajustable de 400 a 2000 RPM en términos de velocidad del motor
• Un depósito de polvo de 2" (forma de copa) se encuentra en el motor de vibración. El polvo rebota y gira por sí mismo durante el proceso de recubrimiento.
• Cantidad de polvo sugerida: 5 - 20 ml
• Tamaño de partícula sugerido: 1 ~ 1000 micras ( El polvo debe secarse al vacío antes del coting)
• La etapa de muestra de la mezcla de la cuchilla está disponible bajo petición para la mayor cantidad de polvo

Sistema de purificación de gas

• Tecnología innovadora de MTI-- utilizando un sistema de purificación de gas para reemplazar la turbobomba para obtener el recubrimiento de la batería.
• Dos columnas de tamices moleculares son Built-in en el sistema. que puede eliminar el oxígeno y la humedad menos de < 1 PPM
• Controlador de temperatura de regeneraciónincorporado para regenerar automáticamente los filtros.
• La función de purga automática está incorporada para reducir rápidamente O2 < 200ppm & H2O < 50 ppm antes de reciclar.
• El sistema automático de control de presión está incorporado para mantener la presión a un nivel constante
• Se incluye un panel táctil PLC en color de 6" que puede ajustar y mostrar el nivel de humedad y presión.
• Haga clic en la imagen de la columna de la izquierda para ver las especificaciones detalladas
• Después de la purificación con O2 y H2O < 1 PPM, la presión de la cámara se puede establecer un nivel de vacío adecuado ( 50 - 100 m-torr) para sputtering, que es mucho mejor que 10-5 torr de vacío.

• El monitor de espesor de película de cuarzo de precisión es opcional, y puede introducirse en la cámara para controlar el espesor del revestimiento con una precisión de 0,10 Å.

Conformidad

• Aprobación CE
• La certificación NRTL está disponible bajo pedido con un coste adicional, póngase en contacto con nuestro representante de ventas para obtener el presupuesto.

Opcional

• Esta barnizadora puede colocarse en una caja de guantes estándar con modificación para materiales sensibles al aire. (Foto 1)
• Un recubridor de 3 cabezales más grande con cámara de vacío de 12", pedido de muestras de 8" de diámetro y 3 pistolas de pulverización catódica de 2" está disponible bajo pedido (fig. 2).