Películas finas A-Z

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Película de CeO2 (40 nm una cara) sobre YSZ <100> 10x10x0,5 mm - FmCeO2onYSZa101005S1FT40nm

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Película de nitruro de boro sobre oblea de silicio, 24 nm / 4" -- BN-Si-100-24nm - FmBNonSia100D0525C1FT24nm

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Portaobjetos de microscopio recubiertos de Au(Oro)/Ti(Titanio),Espesor de la capa de oro: 50nm (+/- 5nm),Portaobjetos de vidrio: 75 x 25x1.1mm, pureza del Au: 4N5 - FmAu50Ti15enVidrio752511

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Au(Oro)/Ti(Titanio) Portaobjetos para Microscopio,Espesor de la capa de oro: 100nm,Portaobjetos de vidrio: 75 x 25x1.1mm, pureza del Au: 4N5 - FmAu100Ti15enVidrio752511

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Película de aluminio sobre oblea de silicio, 3 micras / 4" -- Al-Si-100-3um, Si(100) tipo N, R:1-20 ohm.cm - FmAlonSiPa101D0525C1FT3umR1

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Película de aluminio sobre oblea de silicio, 3 micras / 4" -- Al-Si-100-3um ,Si(100) tipo N, R:<0,005 ohm.cm - FmAlonSiAsa101D0525C1FT3um

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Película de aluminio sobre oblea de silicio , 3 micras / 4" -- Al-Si-100-3um ,Si(100) tipo P dopado con B R:1-20 ohm.cm

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Vidrio sodocálcico con revestimiento de Mo de 500 nm de espesor, 25 mm(L) x 25 mm(A) x 0,7 mmgr - FmMoCoatedGlass252507FT500

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Vidrio sodocálcico con capa de Mo de 500 nm de espesor, 20 mm(L) x 15 mm(A) x 0,7 mm grosor - Vidrio con capa de Mo-201507

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Vidrio sodocálcico con revestimiento de Mo de 500 nm de espesor, 100 mm(L) x 100 mm(A) x 1,1 mm esp.

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4H-SiC Epitaxial Film on 4H-SiC(0001) with 4 degree off P type, 2 "dia. x0.33mm, carrier conc. (0.3-1.9) E16/cc, 2sp, film thickness: 11 um

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4H-SiC Epitaxial Film on 4H-SiC (0001) w/ 8 degree off, P type,2 "dia.x0.33mm, carrier conc. 1.4 E17/cc, 2sp, thickness 4.3um-Fm4HSCon4HSC50d03C2deg8US

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Ge epi-film tipo N de 4" sobre oblea de silicio tipo N, 0,5 um de espesor - FmGeNtypeonSiNtypea101D05C1US

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2" dia. Película de InGaAs sobre InP (SI) (100) Depositada por MOCVD, 2" dia x0.35mm,2sp,Película:500 nm

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2" dia. InGaAs EPI Film on InP (SI) (100) Depositied by MOCVD ( InP:Fe) 2" dia x0.35mm,2sp,Film:750 nm