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Horno de doble tubo deslizante de 1200C máx. con bridas de tubo de 50 mm para TCVD - OTF-1200X-S-50-DFSL

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Horno tubular dividido de cuatro zonas de 1200C máx.: zonas de calefacción de 47 "L y tubo opcional de 8", 10" o 14" de diámetro interior - 1200C máx. - OTF-1200X-IV-X

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Horno de tubo corredizo 1200C Max (80mm OD) con bridas para calentamiento / enfriamiento rápido - OTF-1200X-80-SL

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1200C Max Horno de tubo partido de tres zonas: 36 "L Zonas de calentamiento x 8 "ID Tubo - 1200C Max - OTF-1200X-III-8

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Horno tubular PECVD de dos zonas y 1200C máx. (50 mm de diámetro exterior) con precalentador y deslizamiento automático - OTF-1200X-II-50-PEMSL

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1200C Max. Horno tubular de 4" con brida deslizante - OTF-1200X-100-SF

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1200C Max. Horno doble (tubo de 80 mm de diámetro) con un horno deslizable para TCVD - OTF-1200X-80-DFSL

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1200C Max. Aplicador de Alta Temperatura con Soporte de Rotación para Max. 4" Dia. Muestra - PTL-HT-4

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1200C Max. Horno CVD mejorado por plasma de microondas (MPECVD) con tubo de cuarzo de 1''-2'' - OTF-1200X-S-MPECVD

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1200C Max. Horno tubular PECVD con 4 canales de suministro de gas y bomba de vacío - OTF-1200X-PEC4LV

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1200C Max. Horno PECVD deslizable de doble zona con suministro de gas y bomba de vacío - OTF-1200X-II-PEC4SL-LD

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1200C Max. Horno de pirólisis por pulverización ultrasónica de 3 zonas para la síntesis de nanopartículas - OTF-1200X-III-PGEP

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1200C Max.5" Horno tubular rotativo de tres zonas-OTF1200XIIIR5L

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Horno de mufla 1200C (12" x 8" x 5", 7.2L) con orificio de ventilación y ventana de cuarzo - KSL-1200X

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Horno de mufla 1200C (12x12x12", 27 L) con controlador programable- KSL1200X-M

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Horno rotativo PE-HPCVD 1200C con evaporador in situ, MFC de 4 canales y bomba de vacío - OTF-1200X-II-PEC4

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Horno de caja pequeño de 1200C (6 "x6 "x7", 4,2 litros) con controlador programable separado - KSL-1200X-J-F

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Horno de tubo partido de 1200C (zona de calentamiento de 18") con tamaño de tubo y brida de cuarzo opcionales - OTF1200X

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Horno tubular HPCVD de 1200C y tres zonas de 5 "D con sistema de alimentación de fuente secuencial y de co-deposición de hasta 3 crisoles - OTF-1200X-III-HPCVD-S3

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Horno tubular 1200C con juego anticorrosivo: Bridas de PTFE y mezclador de gas - OTF-1200X-80-F3LV-PTFE