Fuente de pulverización catódica de magnetrón de alto vacío de 2" con cabezal flexible y conector rápido - HVMSS-SPC-2F

La HVMSS-SPC-2 es una pistola circular de pulverización catódica por magnetrón de 2" de diámetro que puede alojar una amplia gama de cátodos de pulverización catódica, como metálicos/aislantes o magnéticos/no magnéticos. El imán permanente circular de tierras raras NdFeB se utiliza para garantizar una excelente uniformidad de la película y utilización del cátodo. Esta pistola para sputtering es fácil de manejar y mantener. La instalación es sencilla y puede funcionar con una fuente de alimentación de CC o de RF.

Características	El cabezal de sputtering puede inclinarse +/- 25 grados para ajustar el ángulo de incidencia de los bombardeos y mejorar el rendimiento del sputtering. Fabricado con materiales de alta calidad de acero inoxidable y cerámica. En el diseño del conjunto magnético permanente se utilizan cálculos electromagnéticos de elementos finitos para conseguir una elevada intensidad de campo y un perfil de campo uniforme. El imán está recubierto de material protector contra la corrosión del agua de refrigeración para maximizar su durabilidad. Conector RF estándar, compatible con una amplia gama de fuentes de alimentación para sputtering de CC y RF. Los cabezales de sputtering de baja impedancia se pueden conectar fácilmente a una fuente de alimentación externa. Fácil de instalar un accesorio estándar con conector rápido incluido. Se incluye una placa de apoyo de cobre de 2"(EQ-CBP-2). La sustitución del blanco es fácil y no es necesario ajustar la pistola para adaptarla a blancos de diferente altura.
Requisitos de alimentación	CC (máx.) 500 W RF (máx.) 300 W
Tipo de conexión eléctrica	Cable estándar SL16 Conector ( Pic.1 ) Cable RF opcionalde 148 cm con conector SL6 (haga clic en la imagen 2 para realizar el pedido) Foto 1 Foto 2
Corriente de pulverización catódica (máx.)	5Amp
Tensión de pulverización catódica	200-1000 V
Presión de sputtering	1-1000 mTorr
Curva de uniformidad del sputtering
Dimensiones	Diámetro del escudo del ánodo 86mm
Blanco para sputtering	Diámetro: 2.0" (50.8mm), Espesor: hasta 1/4" para cátodos no magnéticos; hasta 1/16" para cátodos magnéticos Utilización: hasta el 30%. Imán: Imán de tierras raras NdFeB
Requisitos de agua de refrigeración	Caudal: 0,8 GPM, filtrada Temperatura de entrada del agua <20 C Tubería de agua: Desconexión rápida de 6 mm.
Montaje	Paso de agua: tubo de 3/4" de diámetro exterior.
Peso neto	3.5 lbs
Accesorios	Se incluye un conector rápido de alto vacío con un diámetro interior de 0,75". Utilice este componente para instalar la fuente de sputtering en la placa base (hasta 1" de grosor) de una cámara de vacío con orificio pasante de 1" de diámetro ( haga clic en la imagen de abajo a la izquierda para ver el detalle ). La brida de 6" CF con un pasamuros de alto vacío está disponible bajo pedido con un coste adicional. El cabezal del sputtering puede instalarse fácilmente en la brida de vacío de 6'' CF a través del desconector rápido. La posición en altura de la pistola de sputtering puede ajustarse manualmente dentro de la cámara de vacío. (Haga clic en las imágenes 3 y 4 para ver los detalles) Enfriador de agua digital de temperatura controlada con tanque de 6 litros, 16L / min de flujo está disponible a un costo adicional, por favor haga clic en la imagen de abajo a la derecha para ordenar.
Instrucciones de uso
Garantía	Limitada a un año con asistencia de por vida
Más componentes Sputter	Haga clic en la imagen de arriba para ver más productos.