MTI  |  SKU: FmCu100Ta50SO300onSiBa101D05

Película de Cu sobre Ta/SiO2/ 4 "Oblea de silicio, Cu=100 nm Ta=50nm SiO2=300nm, Si(100) tipo P dopado con B 4 "x0,525mm, 1sp

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Película de Cu sobre Ta/SiO2/ 4 "Oblea de silicio, Cu=100 nm Ta=50nm SiO2=300nm, Si(100) tipo P dopado con B 4 "x0,525mm, 1sp

MTI

Especificaciones:

  • Oblea de SiO2/Si recubierta de Cu (tamaño de 4 pulgadas)
  • Espesor de la película policristalina de Cu <111>: 100 nm
  • Espesor de la barrera de difusión de Ta: 50 nm
  • Oblea de SiO2/Si de 4 pulgadas de diámetro (Grado Prime)
    • Tipo P, dopado con B, orientación <100>, pulido por una cara
    • Resistividades: 1-20 ohm-cm
    • óxido térmico: 300 nm de espesor
  • Rugosidad superficial: según crecimiento
  • Embalaje: Una sala blanca de clase 1000 con bolsa de plástico de clase 100



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