Sistemas compactos de vaporización de líquidos con control de temperatura y presión para CVD y DLCVD - LVD-F1

El LVD-F1 es un sistema de evaporación de líquidos de precisión y rentable para CVD o DLCVD a escala de laboratorio, que puede transportar todo tipo de líquidos, como ETOH, SnCl4, TiCl4r, SiHCl3 y Zn(C2H5)2, etc., sin preocuparse por la corrosión. Es una herramienta ideal para el procesamiento CVD de nanocables y películas en la investigación de materiales.

ESPECIFICACIONES

Estructura del producto
Potencia de entrada	220V 50Hz 2200 W Consumo de energía 110V está disponible con un transformador
Control de flujo de líquido	Rango de caudal: 1 - 82 ± 1ml/minuto ajustable (caudal mín.: 1 ml/min)
Calentador y controlador de temperatura	Cámara de evaporación SS316, hasta 550ºC Línea de gas calefactor, hasta 200ºC) para evitar la condensación del líquido. Controlador de temperatura de un solo punto para el evaporador y la línea de calentamiento.
Control de flujo de gas	El gas de transporte (gas inerte) se controla mediante un caudalímetro de flotador de precisión (200 - 2000 mL/min ajustable). El controlador de caudal másico digital opcional está disponible con un coste adicional. Manómetro incorporado en el panel frontal Dos válvulas de aguja de acero inoxidable instaladas para controlar la entrada y salida de gas Tamaño del tubo de salida de gas de vapor: 1/4" DE Nota: El tubo de PTFE de 1/4", el tubo de acero inoxidable de 1/4" y el vaso de precipitados no están incluidos, los clientes deben prepararlos según las necesidades experimentales. El tanque de gas inerte es necesario para suministrar vapor
Nota de aplicación	Este sistema puede encajar con todos los hornos tubulares MTI y hornos CVD, haga clic en la imagen de abajo para ver cómo, y elegir un horno en " Sistema de Hornos CVD"
Conformidad	Certificado CE Certificación NRTL o CSA disponible bajo pedido