MTI | SKU:
OTF1200XIIR4
Horno tubular CVD rotativo de 4" y dos zonas @1200C máx. - OTF-1200X-4-R-II-UL
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Horno tubular CVD rotativo de 4" y dos zonas @1200C máx. - OTF-1200X-4-R-II-UL
MTI
El OTF-1200X-4-R-II es un horno tubular rotativo de dos zonas, diseñado para calcinar compuestos inorgánicos con mayor uniformidad, especialmente bueno para preparar materiales catódicos para baterías de iones de litio con revestimientos conductores, como LiFePO3, LiMnNiO3, etc. y CVD rotativo para materiales anódicos de Si/C...
Especificaciones:
| Construcción del horno |
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| Longitud de la zona de calentamiento |
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| Tubo de procesamiento y brida de sellado |
Cuatro palas mezcladoras DimensiónOpcional:
![]() |
Racor de entrada: Codo Racor para tubo de 6 mm de diámetro exterior; Racor de salida: Codo Racor para tubo de 12 mm de diámetro exterior | |
| Temperatura Temperatura de trabajo | 1100°C en continuo 1200 °C máx. durante < 2 horas |
| Velocidad de calentamiento | Recomendado 10 °C/min Máximo: 15 °C/min |
| Controladores de temperatura | Dos controladores de temperatura digitales PID con 30 segmentos programables, +/- 1 °C |
| Dos Omega tipo K de 3 mm de diámetro exterior x 6" de longitud con conector de tolerancia a altas temperaturas (220°C) | |
| Velocidad de rotación del tubo | 0 - 10 RPM variable |
| Ángulo de inclinación del horno | -5° - 20° |
| Presión de la cámara | 4,5x10-2 torr (tasa de fuga <0,1mtorr/s si se cierran todas las válvulas para hermetizar la cámara del tubo) |
| Rendimiento de producción | 2 kg por lote |
| Potencia | 3,3 kW máx. |
| Tensión | 208 - 240 V monofásico (requiere disyuntor de 30 A) |
| Ordenador portátil y software (opcional) |
Sistema de control de temperatura basado en Labview ( MTS01)permite a los usuarios editar perfiles de temperatura, gestionar recetas de tratamiento térmico y registrar y trazar datos para hornos MTI. |
| Conformidad |
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| Notas de aplicación |
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| Advertencias |
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