Película de nitruro de silicio (LPCVD) sobre Corning 7980, Espesor de la película: 1,3um ,10x5x0,5mm

Película de nitruro de silicio

• Película de Si3N4 recubierta por el método LPCVD de baja tensión
  
• Si3N4 Espesor: 1,3um +/- 5%.
• Si3N4 recubre ambas caras de sílice fundida Corning 7980 0F ( Advertencia: la película de Si3N4 puede presentar microfisuras inducidas por tensión debido a la gran diferencia de coeficiente de expansión térmica entre la sílice fundida Si3N4 y SiO2 )
  

- Sílice fundida de grado UV (Corning 0F 7980 HPFS)
- Tamaño: 10x5x0,5mm
- Borde: Rectificado CNC
- Calidad de superficie: 60/40 o cerveza
- Área no efectiva: 2,0 mm de borde
- TTV: < 20 micras
- Pulido: Dos caras pulidas (60/40)
- Rugosidad superficial media Ra: =< 5 A RMS

• Opcional: puede necesitar la siguiente herramienta para manipular la oblea ( haga clic en la imagen para pedirla )

  Scriber de diamante para el corte de sustrato de cristal único - DS-01	Bayeta de microfibra y libre de polvo, 4 "x4", 100 uds/bolsa - Wiper-yx-2001	Lápiz de vacío SMT-150C (NUEVO) - EQ-SMT-150C	Contenedores para obleas individuales

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