La célula de grabado pequeña

Una de las aplicaciones más habituales de una célula de grabado electroquímico es la preparación de una capa de silicio poroso nanocristalino sobre una oblea de silicio monocristalino.

Nota
de aplicación: Para llevar a cabo un proceso electroquímico, se coloca una muestra conductora cuadrada sobre la base de la célula, utilizando un trozo de papel de aluminio como contacto posterior. El conjunto se sella con una junta tórica para evitar fugas de electrolito. La célula se llena con electrolito y el electrodo de alambre se sumerge en la solución a modo de contraelectrodo. Se hace pasar una corriente eléctrica entre el contacto posterior de aluminio y el electrodo de alambre durante un tiempo determinado. Tras el proceso, los elementos de la célula deben lavarse varias veces con etanol y secarse bajo un flujo de nitrógeno. Vea aquí la demostración del montaje.

Especificaciones
: área de exposición nominal: 0,21 cm^²
; volumen de electrolito: 2,2 ml
; tamaño mínimo de la muestra: 12 mm x 12 mm
; anchura máxima de la muestra: 31 mm

Datos
Intrastat: Código HS: 85433070
; País de origen: Suecia
; Peso neto: 100 g

El producto incluye
: 1 base de célula - 0058CPEMASM
, 1 tapa de célula - 0059CPEMASM
, 1 juego de tornillos - 0057PNYCM

Productos
relacionados: Electrodo de alambre metálico en espiral para célula
de grabado de sustratos de carbono vítreo – GC 25/25/a medida

Esta célula de grabado se ha desarrollado basándose en un diseño del Prof. Dr. Michael J. Sailor, publicado en *Porous Silicon in Practice: Preparation, Characterization and Applications*, Apéndice A1. Diagramas y esquemas de ingeniería de la célula de grabado.