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OTF1200XIIRTP
Horno CSS de dos zonas para procesamiento térmico rápido de hasta 3" de diámetro y máx. 650°C. - OTF-1200X-RTP-II
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Horno CSS de dos zonas para procesamiento térmico rápido de hasta 3" de diámetro y máx. 650°C. - OTF-1200X-RTP-II
MTI
OTF-1200X-RTP-II es un horno de procesamiento térmico rápido de dos zonas de calentamiento con tubo de cuarzo de 11" de diámetro exterior. Está diseñado para el recubrimiento de películas PVD o CSS (Close Spaced Sublimation) de hasta 3" de diámetro o 2 "x2" cuadradas. El horno se calienta mediante dos grupos de calentadores halógenos (superior e inferior) por separado con un máximo de 20ºC/s. Incorpora dos controladores de temperatura de precisión de 30 segmentos con una precisión de +/-1ºC. Se incluye puerto RS485 y software de control para permitir el funcionamiento del horno y el registro de perfiles de temperatura a través de PC. Es una herramienta excelente para la investigación de películas finas de nueva generación para células solares, como CdTe, Sulfuro y Perovskita. También puede utilizarse como RTP para el recocido de películas finas.
ESPECIFICACIONES:
Estructura del horno y cámara de vacío![]() |
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| Medidores de flujo de gas |
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Calentadory portamuestras |
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Controlador de Temperatura![]() ![]() |
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Temperatura de trabajo |
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| Velocidad de calentamiento y enfriamiento |
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| Pareja Térmica | Se instalan dos pares térmicos de tipo K (expuestos) en los calentadores superior e inferior por separado |
| Tensión de trabajo | 208 - 240VAC, monofásico, disyuntor de 20A |
| Potencia requerida | 2200W total ( 1100W para cada calentador ) |
Opcional |
>. |
| Garantía | Limitada a un año con soporte de por vida ( Las piezas consumibles como el tubo de cuarzo y las lámparas calefactoras no están cubiertas por la garantía) |
| Conformidad |
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| Vídeo de funcionamiento | |
| Nota |
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| Artículos de referencia |
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