Prodotti

MTI

Sistema di fusione ad arco sottovuoto a 4 teste con focolare di rame freddo ad acqua rotante - AM-400

MTI

Tubo rotondo a 4 fori, allumina 99,8%, 1/4" O.D. x 28,5" di lunghezza - MC-AXF1180-19-24-1-LD

MTI

Alimentatore di fanghi di precisione da 4 litri con pompa a cavità progressiva per il rivestimento di fessure R2R - MSK-156

Fuel Cells ETC

4 mg/cm² Platinum Black - Carbon Cloth Electrode (W1S1010)

FCS

4 mg/cm² Elettrodo nero di platino - panno di carbonio (W1S1011)

FCS

4 mg/cm² Nero platino - Elettrodo in carta carbone

Fuel Cells ETC

4 mg/cm² Platinum Ruthenium Black - Carbon Cloth Electrode (W1S1010)

FCS

4 mg/cm² Nero di platino e rutenio - Elettrodo su tela di carbonio (W1S1011)

FCS

4 mg/cm² Platino nero rutenio - Elettrodo in carta carbone

FCS

4 mg/cm² Elettrodo nero di platino - panno di carbonio (W1S1010)

FCS

4 mg/cm² Nero di platino e rutenio - Elettrodo su panno di carbonio (W1S1010)

MTI

Applicatore di film a 4 percorsi (4 x 25 mm di larghezza) per il rivestimento multi-composizione ad alta produttività - Se-KTQ-4-25

MTI

Applicatore di pellicola a 4 percorsi con larghezza e distanza opzionale (80/120 mm) di 5 - 20 m/50 - 200 m - Se-KTQ-4S

MTI

Unità di verniciatura per immersione a 4 posizioni in funzione dell'angolo - PTL-AADC

MTI

Sistema di rivestimento SILAR a 4 posizioni con camera stagna e agitatore magnetico - PTL-SC-4S-LD

MTI

Lama diamantata sinterizzata con diametro di 4" x 0,017" (0,45 mm) T x 0,5" di perimetro - EQ-DB-153742-LD

MTI

4" Dia. Piastra riscaldante ad alto vuoto fino a 800C per il rivestimento sputtering fai da te - HVHP-100

MTI

Porta wafer in PFA da 4" di diametro (capacità: 25) per la pulizia dei wafer - PFA-4-25

MTI

Scatola porta wafer singola da 4" di diametro - inclusi contenitore, coperchio e molla - 10 set/pck - SP5-S4

MTI

Mortaio e pestello di agata naturale di alta qualità da 4" - OP-MTA-4