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Pellicola epi-film di Ge di tipo N da 4" su wafer di silicio di tipo N, spessore 0,5 um - FmGeNtypeonSiNtypea101D05C1US

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Film di Ge di tipo P da 4" su wafer di silicio di tipo N, spessore 0,5 um - FmGePtypeonSiNtypea101D05C1US

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Apparecchio di lucidatura da 4" con dima a vuoto per la diluizione e la lucidatura di precisione e automatica - EQ-PF-4-1P

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Supporto per campioni di lucidatura da 4" con otto fori da 1" e due pesi morti per la metallografia - EQ-PF-8H1

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Apparecchio di lucidatura di precisione da 4" con dima a vuoto per una più rapida diluizione e lucidatura - EQ-PF-4-1V

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Tubo di quarzo da 4" per forni rotativi a tubo a due zone MTI - QZTube-R-D

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Tubo al quarzo da 4" per forni rotativi a tubo monozona MTI - QZTube-R-S

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Forno tubolare CVD rotante a due zone da 4" @1200C Max. - OTF-1200X-4-R-II-UL

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Mandrino a vuoto da 4" per sega per dadi MTI CNC - EQ-ECO402

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Pressa elettrica a rulli freddi da 4" di larghezza con rulli in ceramica e PTFE opzionali - MSKMR100DC

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Tubo ceramico in allumina da 4" x 40" (101 OD x 90 ID x 1000 mm L) - TA-101D-M1000

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Tubo ceramico in allumina da 4" x 47 1/4" (101 OD x 90 ID x 1200 mm L) - TA4DM1200

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Lame da taglio diamantate piene sinterizzate da 4" di diametro x 0,014" (0,35 mm) di spessore x 0,5" di foro (grado fine 40 micron) - EQ-DF0403

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Lama da taglio abrasiva in allumina da 4" di diametro x 0,35 mm x0,5" per sega a bassa velocità/taglio - EQ-AL0404

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Lame da taglio abrasive SiC da 4" di diametro x 0,4 mm x0,5" per sega a bassa velocità/taglio - EQ-SC0404

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4 "Dia ° 0,014" (0,35 mm) di spessore ° 0,5" di perno Lame da taglio diamantate complete sinterizzate (grado grosso 63 micron) - EQ-DF0403C

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4'' Dia. Soffione a spillo per il fai da te di ALD/CVD - EQ-SH-4

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4'' Dia. Soffione per il fai-da-te del sistema CVD potenziato al plasma - EQ-PESH-4

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Sigillatrice 4 in 1 per la tenuta, la sigillatura e lo spurgo dall'alto o dal basso per le celle a sacchetto (180x160 mm) - MSK115A-MS

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Passaggio elettrico a 4 pin con morsetto KF-25 per forno - EQ-FT-KF25