PECVD Furnaces

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Forno rotativo PE-HPCVD 1100C con evaporatore in situ, MFC a 4 canali e pompa per vuoto - OTF-1200X-S-II-PEC4

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Forno rotativo PECVD 1100C con pompa a vuoto - OTF-1200X-S-II-PECVD

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Forno a doppio tubo scorrevole 1200C con 2 tubi e flange per PECVD - OTF1200XSDFPESL

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Forno tubolare PECVD a due zone da 1200 C max (50 mm OD) con preriscaldatore e scorrimento automatico - OTF-1200X-II-50-PEMSL

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1200C max. Forno tubolare PECVD con 4 canali di erogazione del gas e pompa del vuoto - OTF-1200X-PEC4LV

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1200C max. Forno PECVD a doppia zona scorrevole con erogazione del gas e pompa del vuoto - OTF-1200X-II-PEC4SL-LD

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1200C Max. Forno a ultrasuoni per pirolisi spray a 3 zone per la sintesi di nano particelle - OTF-1200X-III-PGEP

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Generatore RF a 13,56 MHz da 300 W per forno a tubo da 50, 80 o 125 mm di diametro esterno - OTF-PECVD-RF

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Forno a tubo diviso PECVD da 5" (1200C max.) con stazione della pompa del vuoto - OTF-1200X-5L-PE

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Forno tubolare rotante da 5" con alimentazione e ricezione per PE-CVD in polvere e pulizia - OTF-1200X-III-R5-PECVD

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Sistema di forni tubolari combinati ALD e PECVD - OTF-1200X-ALD

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Forno PECVD compatto a scorrimento automatico con tubo da 2" e pompa del vuoto, max. 1200C - OTF-1200X-S50-PESL

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Sistema PE-CVD roll to roll per la crescita continua di film su filo o foglio - OTF-1200X-II-PE-RR

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Sistema PECVD per piccoli lotti (12 pezzi da 6" Wafer) (tipo CCP) per test pilota - PECVD-8-16