MTI  |  SKU: IASa50D05C1US

InAs (100), drogato S, diametro 2" x 0,5 mm, un lato lucidato, cc:(1-30)E17/ cm^3 - IASa50D05C1US

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InAs (100), drogato S, diametro 2" x 0,5 mm, un lato lucidato, cc:(1-30)E17/ cm^3 - IASa50D05C1US

MTI

Wafer InAs da 2" (tipo N)

  • Wafer InAs da 2" (drogato con S, di tipo N)
  • Dimensioni: 2" di diametro x 500 micron +/-25 micron
  • Orientamento: <100> ±0,50
  •  Lucidatura: Lucidato su un solo lato
  • Imballaggio: in camera bianca di classe 1000 con contenitore per wafer

Proprietà

  • Metodo di crescita: LEC
  • Orientamento (100) +/- 0,5 o
  • Orientamento piano SEMI                
  • Drogaggio Drogato con S
  • Tipo di conduttività Tipo N
  • Concentrazione di portatori (1-30)x10^17/ cm3
  • EPD <50.000 cm⁻² 
  • Resistività:                                                     
  • Mobilità: <10.000 cm²/vs