Substrato di cristallo A-Z

MTI

WSe2 sintetico, (3) mm x (2) mm x (0,1) mm

MTI

Sintetico WS2, (3) mm x (3) mm x (0,1) mm

MTI

MoTe2 sintetico, (3) mm x (3) mm x (0,1) mm

MTI

MoSe2 sintetico, ( 2,5-3,0) mm x ( 2,0-2,5) mm x ( 0,1) mm

MTI

MoS2 sintetico, dimensioni: circa 3 mm x 3 mm x 0,1 mm - MoS2synS030301SNUS

MTI

Wafer stechiometrico LiNbO3 (SLN), taglio a Z, 10x10 x 0,5 mm t, 2sp - LNOZ101005S2StoiUS

MTI

Wafer stechiometrico LiNbO3 (SLN), taglio a Z, 10x10 x 0,5 mm , 1sp

MTI

Substrato in acciaio inox (SUS301 HV200-HV600): 1" Dia x 0,3 mm, come laminazione a freddo

MTI

Foglio di acciaio inossidabile: SS316 100/ 300 W x 0,01/ 0,1 T x 4000 L (mm), SSF-316-300-01

MTI

Schiuma in acciaio inox: SS316 250 mm L x 250 mm L x 1 mm di spessore, MF-SS250Fom

MTI

SrTiO3 (100) 10x10x1.0mm, 1sp, (cristallo prodotto in Giappone) - STOa101010S1JPUS

MTI

SrTiO3 (100) 10x10x1,0 mm wafer lucidato a specchio 2 SP - STOa101010S2

MTI

SrTiO3 (100) 10x10x1,0 mm wafer lucidato a specchio 1 SP - STOa101010S1

MTI

SrTiO3 (100) 10x10x0,5mm, 2sp, (cristallo prodotto in Giappone)

MTI

SrTiO3 (100) 10x10x0,5mm, 1sp, (cristallo prodotto in Giappone) - STOa101005S1JPUS

MTI

SrTiO3 (100) 10x10x0,5 mm wafer lucidato a specchio 2SP - STOa101005S2

MTI

SrTiO3 (100) 10x10x0,1mm, 2SP - STOa101001S2

MTI

SrTiO3 (100) 10x10x0,1mm, 1SP - STOa101001S1

MTI

SrTiO3 (100) wafer da 1" dia. x0,5 mm lucidato a specchio 2 SP - STOa25D05C2

MTI

SrTiO3 (100) wafer da 1" dia. x0,5 mm Epi lucidato 1 SP - STOa25D05C1